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- [发明专利]半导体器件-CN201811504759.8有效
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中柴康隆;绵贯真一
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瑞萨电子株式会社
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2018-12-10
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2022-06-21
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G02B6/12
- 本申请涉及半导体器件。在具有在第一半导体层上方堆叠第二半导体层且插入有电介质层的配置的SIS型光波导部分中,第一半导体层在没有堆叠第二半导体层的第一引出部分处电耦合到第一电极。此外,第二半导体层在不与第一半导体层重叠的第二引出部分处电耦合到第二电极。结果,当通过干法刻蚀形成用于形成第二电极的接触孔时,第一半导体层和第二半导体层之间的电介质层不会被损坏或破坏,并且因此可以防止第一半导体层和第二半导体层之间的短路故障。
- 半导体器件
- [发明专利]光学系统及改进光学系统的方法-CN201110218047.1无效
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蔡万绍
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奥兰若技术有限公司
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2011-07-21
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2013-01-23
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H01S5/40
- 光学系统包括:多个半导体激光发射器,所述多个半导体激光发射器中的每个半导体激光发射器可操作地耦合到用于对所述半导体激光发射器发射的光束进行准直的快轴准直光学器件和慢轴准直光学器件,以使所述多个半导体激光发射器发射的光束能够成为基本平行光束;以及耦合光学器件,用于将所述基本平行光束耦合到光纤中,其中,所述光学系统还包括一个或多个透光介质片,所述一个或多个透光介质片被布置成,在所述基本平行光束到达所述耦合光学器件之前,平移所述基本平行光束中的至少一路光束,以使到达所述耦合光学器件的所述基本平行光束的总宽度能够减小。
- 光学系统改进方法
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