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[发明专利]刻蚀槽-CN202010784519.9在审
发明人：邹威;刘杰;胡永红;周建;赵健;石云天 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2020-08-06 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种刻蚀槽，涉及显示技术领域，主要为了解决现有刻蚀槽盖板在使用过程中内表面会聚集大量水珠并掉落至刻蚀槽内，造成OLED面板刻蚀不均的问题；本发明主要技术方案为：一种刻蚀槽，其包括刻蚀槽本体和盖板，所述盖板可拆卸的设置于所述刻蚀槽本体的开口上，所述盖板具有第一表面，当所述盖板罩盖于所述刻蚀槽本体的开口时，所述第一表面朝向所述刻蚀槽本体；所述第一表面上设有吹气装置，所述吹气装置设有吹气口，用于向所述第一表面吹气，以形成平行所述第一表面且覆盖所述第一表面的气膜；此外，本方案可以对第一表面上附着的颗粒物以及脏污进行清洁，防止颗粒物或脏污掉落至刻蚀槽本体内影响刻蚀均一性。
刻蚀

[发明专利]刻蚀槽-CN202110381863.8有效
发明人：黄海静 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2021-04-09 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请公开了一种刻蚀槽，刻蚀槽包括刻蚀槽本体、盖板、分析组件、电磁组件、检测组件，电磁组件用于产生电场，电磁组件包括正极、负极、以及交流电源，交流电源的两端分别与正极、负极相连产生电场；通过检测组件检测各区域刻蚀离子浓度并输出电流信号，分析组件处理电流信号，同时控制交流电源形成电场对刻蚀离子的浓度进行调控。
刻蚀

[实用新型]刻蚀槽结构以及刻蚀机-CN202122031911.9有效
发明人：王涛;单伟;何胜;徐伟智;黄海燕 -专利权人：海宁正泰新能源科技有限公司
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种刻蚀槽结构，包括依次排列的正面刻蚀槽和背面刻蚀槽；第一传送装置和第二传送装置，该第一传送装置设置在所述正面刻蚀槽的开口处，该第二传送装置设置在所述背面刻蚀槽的开口处，该第一传送装置和第二传送装置配合使用将硅片从所述正面刻蚀槽传送至所述背面刻蚀槽；喷淋装置，该喷淋装置设置在所述正面刻蚀槽处，从所述正面刻蚀槽的上方向下喷淋正面刻蚀液；供液装置，该供液装置与所述背面刻蚀槽连通，向所述背面刻蚀槽提供背面刻蚀液。相应地，本实用新型还提供了一种刻蚀实施本实用新型有助于减少刻蚀液的补充量。
刻蚀结构以及

[发明专利]湿法刻蚀槽-CN201910061323.4在审
发明人：李子然;姚江波 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种湿法刻蚀槽，包括具有多个侧壁的腔体，倾斜设置于所述腔体顶部的盖板、以及间隔设置于所述盖板靠近所述腔体的一侧的多个导流板，所述导流板包括上端部和下端部，所述盖板靠近所述腔体的一侧表面设置有纳米疏水涂层
盖板导流板腔体下端部倾斜设置湿法刻蚀疏水涂层上端部侧壁表面设置基板生产间隔设置腔体顶部药液引流内表面药液滴滑动基板良率

[实用新型]湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备-CN201720109655.1有效
发明人：刘海亮;王鹏涛;严清涛;许非凡 -专利权人：东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
申请日： 2017-02-06 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及显示器领域，公开了一种湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备，该湿法刻蚀槽(1)包括具有进口(100)和出口(101)的槽体(10)和设置在所述出口处的气帘(11)，在所述进口和所述出口之间传送有喷洒药液的玻璃基板，所述气帘包括形成于所述气帘内部的通道，所述通道的两端分别形成有与气源相通的进气口以及能够向所述玻璃基板吹出气体的出气口，并且所述湿法刻蚀槽包括供给单元，所述供给单元能够通过所述进气口提供介质以通过所述介质冲洗所述通道该湿法刻蚀槽中的气帘的内部的通道能够被冲洗，从而防止所述气帘被堵塞。由于在所述湿法刻蚀设备中设置了该湿法刻蚀槽，从而使得气体能够被稳定顺畅的排出，提高了刻蚀效率。
湿法刻蚀以及设备

[发明专利]刻蚀槽、输送刻蚀液的方法以及刻蚀系统-CN201910341340.3在审
发明人：卢思源;张文福;刘家桦;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及一种刻蚀槽，该刻蚀槽包括多个输送嘴，多个输送嘴均匀地分布在刻蚀槽的底部，并且多个输送嘴被配置成并行地将刻蚀液输送到刻蚀槽中。
刻蚀槽刻蚀液刻蚀系统并行配置

[实用新型]槽式刻蚀机-CN202222555834.1有效
发明人：薄其连;周超;李宝男 -专利权人：安徽晶科能源有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及太阳能光伏技术领域，公开了一种槽式刻蚀机，包括槽体、传输装置、通气组件及第一通气管，所述传输装置设于所述槽体内，所述传输装置用于承载所述硅片并传输所述硅片，所述通气组件用于朝向背离所述传输装置承载的硅片的方向吹气，所述第一通气管设于所述槽体内，所述第一通气管用于朝向所述传输装置承载的硅片吹气，所述槽体用于容纳刻蚀药液。本实用新型提供的槽式刻蚀机，可以改善通气管的输出气流对硅片的影响，防止气流冲击损坏硅片，提高硅片刻蚀的良率。
刻蚀

[实用新型]一种刻蚀槽用匀流板及刻蚀槽-CN201922351736.4有效
发明人：张临安 -专利权人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司
申请日： 2019-12-24 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种刻蚀槽用匀流板及刻蚀槽，其属于光伏电池加工装置技术领域，该刻蚀槽用匀流板包括板体，所述板体上开设有多个匀流孔，所述匀流孔包括相连通的进液孔和出液孔，所述进液孔的横截面的面积小于所述出液孔的横截面的面积本实用新型使得出液孔侧的液压小于进液孔侧的液压，如此设置，能够使得药液以散发式的喷射方式进入到刻蚀槽内，使得药液混合地更加均匀，从而提高刻蚀槽内对硅片刻蚀的均匀性。
一种刻蚀槽用匀流板

[实用新型]一种湿法刻蚀机及其刻蚀槽-CN201420420427.2有效
发明人：吴成新;李建朋;李永洋;王海涛;王月超;梁楠楠;康莹 -专利权人：天津英利新能源有限公司
申请日： 2014-07-28 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿法刻蚀机的刻蚀槽，包括工艺槽和溢流槽，工艺槽底部设有注液管道，溢流槽底部设有回流管道；工艺槽的数量为至少两个，各工艺槽之间设置至少一个溢流槽，刻蚀槽的两端分别为溢流槽。硅片通过刻蚀槽时交替通过溢流槽和工艺槽，硅片经过工艺槽时接触药液；经过溢流槽时会沾有部分药液，然后硅片将经过下一个工艺槽，重复上述过程，硅片通过刻蚀槽的过程中一直与药液反应。刻蚀槽内的工艺槽与溢流槽间隔分布，减少了需要注满药液的体积，同时也减少了药液的挥发。该刻蚀槽不改变药液浓度，不影响产品质量，降低药液的消耗，提高药液的利用率。本实用新型还公开了一种湿法刻蚀机。
一种湿法刻蚀及其

[发明专利]槽式湿法刻蚀装置-CN202010073605.9在审
发明人：丁齐齐 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种槽式湿法刻蚀装置包括：工艺槽，至少一个酸液供应罐，连接管道，其中，所述工艺槽的位置低于酸液供应罐的位置，所述酸液供应罐通过连接管道与所述工艺槽连通，所述连接管道至少包括连接的横向管道和纵向管道，所述横向管道的入口端与所述酸液供应罐连接，所述纵向管道的出口端与所述工艺槽连接，所述酸液供应罐用于存储酸液以及将存储的酸液通过连接管道供应到工艺槽中，所述工艺槽用于将所述酸液供应罐供应的酸液稀释或者将供应的多种酸液混合，以进行刻蚀工艺；还包括本发明槽式湿法刻蚀装置保证每次换酸后酸的浓度能保持稳定。
湿法刻蚀装置

[发明专利]一种刻蚀槽-CN201911389402.4在审
发明人：王建树;黄调调;董焕苗 -专利权人：浙江鸿禧能源股份有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种刻蚀槽，包括有槽体和硅片输送机构，硅片输送机构由若干个依次间隔连接的送料单元构成，每个送料单元包括有两个支撑板和位于两个支撑板之间的若干辊筒，支撑板包括有底座部分和挡板部分，辊筒的两端分别安装有活动块，挡板部分设有安装槽，活动块通过调节杆调节在安装槽内的高度，辊筒的一端穿过轴承后连接有齿轮，所有齿轮通过与齿轮配合的链条联动，链条由驱动机构驱动转动。本发明的刻蚀槽，可以实现硅片的平稳输送，在线实施监测硅片运行过程，发现刻蚀槽变形导致的辊筒水平异常后可以及时在线调整辊筒状态，从而避免液面波动异常影响硅片刻蚀效果。
一种刻蚀

[发明专利]槽式湿法刻蚀装置-CN202010073624.1在审
发明人：丁齐齐 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种槽式湿法刻蚀装置包括：工艺槽，至少一个酸液供应罐，连接管道和支撑部件，其中，所述工艺槽的位置低于酸液供应罐的位置，所述酸液供应罐通过连接管道与所述工艺槽连通，所述连接管道至少包括连接的横向管道和纵向管道，所述横向管道的入口端与所述酸液供应罐连接，所述纵向管道的出口端与所述工艺槽连接，所述酸液供应罐用于存储酸液以及将存储的酸液通过连接管道供应到工艺槽中，所述工艺槽用于将所述酸液供应罐供应的酸液稀释或者将供应的多种酸液混合，以进行刻蚀工艺；所述支撑部件与所述横向管道接触，用于使得所述横向管道保持水平。本发明槽式湿法刻蚀装置保证每次换酸后酸的浓度能保持稳定。
湿法刻蚀装置

[发明专利]硅浅槽刻蚀工艺-CN200710175213.8有效
发明人：张庆钊 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2007-09-27 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅浅槽刻蚀工艺，包括二氧化硅层开启步、硅槽刻蚀步，在二氧化硅层开启步与硅槽刻蚀步之间还包括硅槽初刻步，硅槽初刻步中所用的工艺气体包括Cl₂气体，还可以适当加入SF2气体的供气流量为50-150sccm；供气压力为5-30mT；刻蚀时间为5-20s。可以有效减轻被刻蚀表面的微小柱形defect(缺陷)。
硅浅槽刻蚀工艺

[实用新型]ITO玻璃刻蚀浸泡槽-CN201420846060.0有效
发明人：施利君;徐鸽 -专利权人：苏州晶洲装备科技有限公司
申请日： 2014-12-26 - 公布日： 2015-04-22 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种ITO玻璃刻蚀浸泡槽，它包括外槽体、内槽体、多根转轴、设置在循环机构，所述转轴在所述内槽体顶部两侧分别形成溢流口，所述内槽体内安装有水平设置的第一匀压板以及安装在所述第一匀压板上方的第二匀压板一方面通过在第二匀压板上设置第二通孔，第一匀压板上设置第一通孔，第二通孔的直径小于第一通孔；另一方面将第二喷淋管的喷淋口朝向内槽体底部，这样有利于提高内槽体内刻蚀液保持稳定，从而提高刻蚀液对ITO玻璃刻蚀的均匀性
ito 玻璃刻蚀浸泡

[实用新型]一种刻蚀槽-CN201821951748.X有效
发明人：朱纹哲;何安康;闫鹏飞;费正洪 -专利权人：盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司
申请日： 2018-11-23 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及太阳能电池技术领域，公开了一种用于对太阳能电池进行刻蚀的刻蚀槽，包括刻蚀槽本体和与所述刻蚀槽本体连接的输送机构，其中，所述输送机构包括两根传动轴和环形网带，两根所述传动轴分别与所述刻蚀槽本体的两端转动连接本实用新型的刻蚀槽利用整体结构的环形网带在刻蚀槽本体内循环转动输送硅片，因环形网带的输送面为平面，可以大大降低液位的波动性，从而大大提高刻蚀的稳定性，降低过刻的概率，并提升刻蚀效率。
刻蚀槽环形网带传动轴本实用新型输送机构刻蚀太阳能电池技术太阳能电池刻蚀效率两端转动体内循环波动性输送面硅片回转液位转动环绕概率

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