专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种单面腐蚀设备-CN201520727288.2有效
  • 李灿 - 李灿
  • 2015-09-18 - 2015-12-30 - H01L21/67
  • 本实用新型提供了一种单面腐蚀设备,属于硅片领域,包括槽和传送装置,所述传送装置包括若干水平布置于所述槽内的带液滚筒和驱动带液滚筒转动的驱动装置,所述带液滚筒垂直于槽的前侧壁和后侧壁,所述槽包括进料口和出料口,所述进料口和出料口处均设有液位调节装置。液位调节装置可将槽内的液刚好控制在硅片下表面处,使硅片下表面完全浸泡在液中,从而达到单面的效果。这种单面腐蚀设备具有节约液、效率高的特点。
  • 一种单面腐蚀设备
  • [发明专利]装置方法-CN202210392875.5在审
  • 高永强;苏世杰;余义;周守亮 - 通威太阳能(安徽)有限公司
  • 2022-04-15 - 2022-08-19 - H01L21/673
  • 本发明提供了一种装置方法,其中装置包括槽;花篮,设于槽内,花篮包括花篮杆和多个花篮齿,多个花篮齿间隔设置在花篮杆上,相邻两个花篮齿之间形成置放空间,花篮齿的纵截面中部的宽度大于两端的宽度方法采用上述的装置对硅片进行,该方法包括:在槽内盛装药液且放置花篮,花篮的置放空间内放置硅片,并使药液完全淹没硅片。该装置方法可使异质结电池片的花篮齿印比例大幅减少,且电池效率和平均产量有所提升。
  • 装置方法
  • [发明专利]硅片清洗工艺-CN201711204169.9有效
  • 陈五奎;刘强;耿荣军 - 乐山新天源太阳能科技有限公司
  • 2017-11-27 - 2019-05-10 - H01L31/0236
  • 本发明公开了一种能够保便于温度控制,同时保证硅片在进行硅片清洗、过程中硅片始终处于湿润状态的硅片清洗工艺。该硅片清洗工艺,采用硅片清洗装置实现,所述硅片清洗装置包括硅片槽、硅片转运装置以及硅片脱胶清洗装置;所述硅片转运装置设置在硅片槽与硅片脱胶清洗装置之间;硅片清洗工艺包括工艺步骤清洗和;采用该硅片清洗工艺温度控精度高,整个工艺槽内化学反应稳定,可控,能够实现有效控制溶液的反应速度和挥发量,便于工艺调整;同时硅片在转运过程中经过喷淋可以保证硅片在运转过程中始终保持湿润状态,从而有效避免出现
  • 硅片清洗工艺
  • [实用新型]一种装置-CN202021724642.3有效
  • 周思洁;曹芳;叶晓亚;邹帅;王栩生 - 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
  • 2020-08-18 - 2021-03-23 - H01L31/0236
  • 本实用新型属于太阳能电池片的技术领域,公开了一种装置。该装置包括槽、溢流槽、补液管道和进气管道。溢流槽与槽连接为一体,溢流槽用于容纳从槽溢流出的药液。补液管道设置有两个喷淋孔组,并能够通过两个喷淋孔组分别向槽与溢流槽喷淋药液。进气管道设置于槽的槽底,并能够向槽的药液中通入惰性气体。通过补液管道的两个喷淋孔组分别向槽与溢流槽补充药液,有利于提高槽与溢流槽内的药液浓度的均匀性。同时,通过进气管道向槽的槽底通入惰性气体,使得槽的药液中出现气泡,增加药液的流动,有利于提高药液浓度均匀性,提高了装置效果。
  • 一种制绒槽装置
  • [发明专利]系统及方法-CN201010623115.8无效
  • 马晓光;何悦;叶俊;黄治国 - 无锡尚德太阳能电力有限公司;尚德太阳能电力有限公司
  • 2010-12-23 - 2012-07-11 - H01L31/18
  • 本发明提供一种系统及方法,属于太阳电池技术领域。该系统用于在单晶硅片表面形成面,其包括:用于盛放液并使单晶硅片在其中反应的槽;用于离线检测所述液中各组分的浓度值的离线浓度检测装置;以及用于根据所述离线浓度检测装置所检测的浓度值向所述槽中补充对应的组分以使所述液各组分的浓度值保持在预定的浓度范围内的补充装置方法通过液腐蚀单晶硅片的表层,并离线检测所述液中各组分的浓度值,并根据该浓度值的结果进行组分补充,以使所述液的各组分的浓度值保持在预定的浓度范围。本发明具有液各组分浓度相对精确可控、一致性稳定性好、液使用寿命长、成本低的特点。
  • 系统方法
  • [实用新型]一种硅片清洗药液液位智能调节装置-CN202220949578.1有效
  • 李响;秦静超;胡燕京;葛照峰 - 江苏龙恒新能源有限公司
  • 2022-04-24 - 2022-09-06 - C30B33/10
  • 本实用新型公开了一种硅片清洗药液液位智能调节装置,包括槽,槽内部设有用于将药液进行导流的导流部件,导流部件包括导流管,导流管卡设在槽上,槽底部设有用于对液进行补液和温控的调节部件,调节部件包括调节管,槽底部设有对硅片产生的杂质进行过滤的过滤部件,过滤部件包括用于对过滤部件进行冲洗的溢流管,溢流管嵌设在槽内部,导流部件能够对液导入到槽内部,调节部件能够对液进行温度进行调控,对液实时进行补液,过滤部件能够对槽内部的杂质进行过筛,对槽内部液位和温度进行智能化调控,对槽内部杂质进行过滤,方便液杂质的清洗,提高硅片的效率。
  • 一种硅片清洗药液智能调节装置
  • [发明专利]一种单晶硅片设备-CN202210322558.6在审
  • 李平安;季晖;杜宗豹 - 徐州中辉光伏科技有限公司
  • 2022-03-30 - 2022-07-01 - C30B33/10
  • 本发明提供一种单晶硅片设备,包括工作台,工作台上设置有用于供给晶硅片的送料装置和用于提供制晶硅片的供液装置以及用于反应的反应装置,送料装置将晶硅片送至反应装置后,供液装置液体送至反应装置,待晶硅片完成之后,反应装置将晶硅片以及液体倾倒出以备下次使用,本发明的设备能够使得每次晶硅片可获得同样浓度和同样高度的液体,反应时间也一致,解决了晶硅片刻蚀程度差异性导致晶硅片反射率也存在差异的问题,保证每个晶硅片能够获得一致的效果。
  • 一种单晶硅片制绒设备
  • [实用新型]铬泥过滤装置-CN201420049911.9有效
  • 符黎明;陈发胜;史文龙 - 常州时创能源科技有限公司
  • 2014-01-26 - 2014-07-02 - C30B33/10
  • 本实用新型公开了一种铬泥过滤装置,包括沉淀槽,所述沉淀槽内固定有用于过滤液并从液中收集铬泥的滤布,所述沉淀槽在滤布上方设有液输入管和清洗液输入管,所述沉淀槽在滤布下方设有液输出管和废液输出管;所述液输入管、液输出管分别连接至槽,所述液输入管和液输出管上设有用于输送液的泵;所述清洗液输入管连接至清洗液槽,所述清洗液输入管上设有用于输送清洗液的泵;所述液输出管和废液输出管在靠近沉淀槽一侧分别设有阀门本实用新型提的铬泥过滤装置,用于多晶硅太阳电池铬酸工艺,能及时去除液中产生的铬泥,保证效果。
  • 过滤装置
  • [发明专利]硅片清洗装置-CN201711204186.2有效
  • 陈五奎;刘强;徐文州 - 乐山新天源太阳能科技有限公司
  • 2017-11-27 - 2019-09-13 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种能够保便于温度控制,同时保证硅片在进行硅片清洗、过程中硅片始终处于湿润状态的硅片清洗装置。该硅片清洗装置,包括硅片槽、硅片转运装置以及硅片清洗装置;所述硅片转运装置设置在硅片槽与硅片清洗装置之间;采用该硅片清洗装置温度控精度高,整个工艺槽内化学反应稳定,可控,能够实现有效控制溶液的反应速度和挥发量
  • 硅片清洗装置

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