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[发明专利]测试光掩模的设备和方法-CN201911114612.2在审
发明人：金锡珠;俞周亨 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2019-11-14 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本发明公开了测试光掩模的设备和方法。一种用于测试光掩模的设备可以包括装载块、驱动块和控制块。装载块可以被配置为容纳光掩模盒，所述光掩模盒被配置为容纳光掩模。底表面可以被配置为支撑光掩模盒。顶表面可以面向底表面。视觉相机可以被安装在顶表面处以拍摄光掩模的边缘部分。
测试光掩模设备方法

[发明专利]光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法-CN202211255619.8在审
发明人：山田慎吾;森山久美子 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种在光掩模的制造时容易进行图案的尺寸控制，能够在光掩模中提高图案的尺寸精度的光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法。该光掩模坯的制造方法用于制造将透明基板(3)的表面划分为第一图案区域和第二图案区域，在第一图案区域形成有第一功能性膜，在第二图案区域形成有第二功能性膜的光掩模坯(2)。
光掩模坯制造方法以及光掩模

[实用新型]光掩模坯料和光掩模组-CN201720040773.1有效
发明人：桥本昌典 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2017-01-13 - 公布日： 2017-10-27 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本实用新型提供能够降低半色调掩模重合误差的光掩模坯料和光掩模组。本实用新型提供一种在四边形的4个顶点具备对准图形且关联有各对准图形的坐标位置的数据信息的光掩模坯料，通过参照上述坐标位置的数据信息修正形成于所述光掩模坯料上的转印图形，能够大幅降低重合误差。另外，通过使用利用上述光掩模坯料形成转印图形的光掩模组，能够大幅降低产品制造的光刻步骤中的重合误差。
光掩模坯料模组

[发明专利]用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法-CN202280009075.9在审
发明人：柳明勋;金宰范;韩德基 -专利权人：丰元精密株式会社
申请日： 2022-01-19 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H10K71/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法，更详细地，提供一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置，其特征在于，包括：对准基准部，形成有至少两个对准基准点，所述对准基准点位于与对准标记重叠的位置；以及摄像装置，安装在能够拍摄所述对准基准部与对准标记的重叠状态的位置，其中，所述对准基准点中的至少一个与形成在多个光掩模中的第一光掩模上的对准标记重叠，并且剩余的对准基准点与形成在第二光掩模上的对准标记重叠，所述第二光掩模与所述第一光掩模相邻地对准。
用于制造大面积显示器用精细金属多个光掩模对准装置方法

[发明专利]用于光掩模的清洁方法及其装置-CN202110130691.7在审
发明人：李信昌;许倍诚;郑浩平;连大成 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本申请涉及用于光掩模的清洁方法及其装置。在清洁光掩模的方法中，将光掩模放置在支撑件上，使得经图案化的表面朝下，并且将粘合剂片施加到光掩模的背面表面的边缘。
用于光掩模清洁方法及其装置

[发明专利]测量EUV掩模的相位的装置和方法及制造掩模的方法-CN202110238755.5在审
发明人：朴钟主;李来源;韩学承;金成洙 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： G01J9/00 文献下载
摘要：本公开提供了用于测量极紫外(EUV)掩模的相位的装置和方法及制造掩模的方法。用于测量EUV掩模的相位的装置包括：EUV光源，配置为产生并输出EUV光；至少一个反射镜，配置为反射EUV光作为入射在要测量的EUV掩模上的被反射的EUV光；掩模台，EUV掩模布置在该掩模台上；检测器，配置为接收从EUV掩模反射的EUV光，以获得二维(2D)图像，并测量EUV掩模的反射率和衍射效率；以及处理器，配置为通过使用EUV掩模的反射率和衍射效率来确定EUV掩模的相位。
测量 euv 相位装置方法制造

[发明专利]光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法-CN201410219079.7有效
发明人：土屋雅誉;池边寿美 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明提供光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法。光掩模用基板组具有第1光掩模用基板，其用于在主表面上形成待转印至被转印体的转印用图案而成为第1光掩模；以及第2光掩模用基板，其用于在主表面上形成待与所述转印用图案重叠地转印至所述被转印体的转印用图案而成为第2光掩模，其中，当设所述第1光掩模用基板的主表面上的图案区域内设定的任意的点M相对于基准面的高度为Zm，设所述第2光掩模用基板的主表面上的图案区域内的处于与所述第1光掩模用基板上的点M对应的位置处的点N
光掩模用基板组模组显示装置制造方法

[发明专利]光图案曝光方法,光掩模及光掩模坯料-CN201210599017.4有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;小板桥龙二;金子英雄;小岛洋介;原口崇;广濑智一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2012-11-21 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光图案曝光方法，光掩模及光掩模坯料。光图案曝光方法是通过光掩模向抗蚀膜照射ArF准分子激光。光掩模包括透明衬底和包含过渡金属、硅、氮和氧的材料的光学膜的图案，过渡金属、硅、氮和氧的含量在特定范围内。光掩模可被ArF准分子激光以至少10kJ/cm2的累积剂量照射过。
图案曝光方法光掩模坯料

[发明专利]光学元件的制造方法-CN200710136167.0无效
发明人：小谷恭子 -专利权人：冲电气工业株式会社
申请日： 2007-07-19 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：作为解决手段，衍射光学元件的制造方法包括执行如下处理的工序：准备基板；对基板进行包括使用光掩模进行的曝光处理的构图，形成抗蚀剂图形，所述光掩模是用于形成抗蚀剂图形的曝光用的光掩模，其具有掩模基板、以及与该掩模基板紧密结合且以矩阵方式排列而成的多个掩模单元，该掩模单元具有光透过区域和利用设置于掩模基板上的遮光膜形成的遮光区域中的任意一方或双方，掩模单元的透过光的光强是归一化光强，且多个掩模单元的透过光的光强是不同的；以及将抗蚀剂图形用作蚀刻掩模，进行构图
光学元件制造方法

[发明专利]光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法-CN202010143020.X在审
发明人：宫崎由宽 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2020-03-04 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：提供光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法，能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正。一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。
光掩模修正方法装置保护膜制造显示装置

[发明专利]光掩模基板、其修正方法、制造方法和处理方法、光掩模的制造方法以及基板处理装置-CN201910910496.9在审
发明人：山口昇 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模基板、其修正方法、制造方法和处理方法、光掩模的制造方法以及基板处理装置，能够不需要时间和工时对光掩模的缺陷修正，由此提高光掩模制造的生产效率和品质。该光掩模基板的修正方法具有：准备光掩模基板(10)的工序，该光掩模基板(10)在透明基板(100)的一个主表面上形成有用于形成转印用图案的光学膜(200)；和针对在光学膜(200)中产生的缺失缺陷形成修正膜的修正工序修正工序中，将原料气体供给至光掩模基板(10)的形成有光学膜(200)的第1主表面中的缺失缺陷的位置附近，同时从光掩模基板(10)的第2主表面侧照射激光，利用透过了缺失缺陷的激光使原料气体发生反应，使修正膜堆积在第
光掩模基板修正方法制造处理光掩模以及装置

[发明专利]光掩模盒及于一光掩模盒内固持一光掩模的方法-CN202110124823.5在审
发明人：邱铭乾;庄家和;温星闵;李怡萱;薛新民 -专利权人：家登精密工业股份有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： G03F1/22 文献下载
摘要：本发明提出一种光掩模盒及于一光掩模盒内固持一光掩模的方法，具有一盒盖及提供于该盒盖的一或多个销组件，该销组件包含：一可动部，配置成能相对于该盒盖的一顶部垂直地移动；及一弹性部，配置成使该可动部介于该弹性部和该盒盖的顶部之间当该光掩模盒未容置一光掩模时，该盒盖的顶部决定该可动部位于一第一水平，且当该光掩模盒容置该光掩模时，该弹性部配合该可动部使该可动部固持该光掩模而位于一第二水平，该第二水平高于该第一水平。
光掩模盒一光掩模盒内固持一光掩模方法

[发明专利]去除光掩模中的硫酸根的方法-CN200910213436.8有效
发明人：金海涛;李德建;徐飞 -专利权人：常州瑞择微电子科技有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-11-06 - 公布日： 2010-04-28 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种去除光掩模中的硫酸根的方法，在10-30℃温度下，用波长在100纳米-250纳米的紫外光在惰性气体氛围中照射光掩模，紫外光照射时间控制为1-120min，光掩模表层的硫酸根离子吸收紫外光波能量，造成硫酸根离子中的氧硫键断裂并转换气态的氧气和二氧化硫，而脱离光掩模表面。本发明通过简单工艺，能降低制造成本，并能更多地去除残留在光掩模表层的硫酸根离子，光掩模上的硫酸根离子残留量低于0.5ppb，从而使得光掩模在其生命周期内不产生雾状缺陷问题，提高光掩模制作水平。
去除光掩模中的硫酸方法

[发明专利]一种光掩模在清洗过程中的传输方法-CN201010300502.8有效
发明人：徐飞;金海涛;吉保国 -专利权人：常州瑞择微电子科技有限公司
申请日： 2010-01-20 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光掩模在清洗过程中的传输方法，首先将光掩模放置于卡盘上，然后机械手抓住卡盘，并将其移动至翻转装置上，翻转装置将卡盘上的光掩模翻转，然后机械手再次抓住卡盘，并将其依次移动至各个不同的工艺腔内进行清洗，清洗完成后机械手抓住卡盘底部的把手，并将其送回翻转装置上，翻转装置再次将卡盘上的光掩模翻转，最后机械手抓住卡盘，并将其送回初始位置。本发明为光掩模提供了一个随行的卡盘，在移动光掩模的过程中，机械手只接触卡盘而并不与光掩模直接接触，这种方法解决了现有技术中机械手容易污染、损坏光掩模的缺点。
一种光掩模清洗过程中的传输方法

[发明专利]一组应用于双大马士革金属互连工艺的光掩模-CN201310081912.1有效
发明人：毛智彪;于世瑞;张瑜 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-03-14 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一组光掩模，应用于双大马士革金属互连工艺，通过设置沟槽光掩模和通孔光掩模；沟槽光掩模包括多组密集沟槽模块、半密集沟槽模块和孤立沟槽模块，通孔光掩模包括多组密集通孔图形模块、半密集通孔模块和孤立通孔模块，并且沟槽光掩模各模块和通孔光掩模各模块之间通过套准标记可以形成多种套准组合的光掩模，能有效地提高双大马士革金属互连工艺制备的精确性和有效性，进而提高器件的良率；同时，还能在有效地减少研发时间和研发成本的基础上
一组应用于大马士革金属互连工艺光掩模