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[发明专利]一种适用于柔性基材的光学薄膜及其制作方法-CN201810324857.7在审
发明人：潘振强;朱惠钦 -专利权人：广东振华科技股份有限公司
申请日： 2018-04-12 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明属于柔性基材制备光学薄膜领域，具体公开一种适用于柔性基材的光学薄膜及其制作方法。该光学薄膜，包括基材、过渡层和光学薄膜层。其制备方法，其具体步骤是：(1)抽真空至本底真空；(2)化学气相沉积法形成氧化硅过渡层；(3)磁控溅射法形成光学薄膜层；(4)光学薄膜制备完成。该光学薄膜较好的结合化学气相沉积工艺和磁控光学镀膜工艺，通过该复合镀膜工艺，可以提高光学薄膜与塑料柔性薄膜基材的结合力，既可以实现光学薄膜在塑料基材的制备，为光学薄膜的使用或进一步加工创造有利条件；又可以提高磁控溅射制备光学薄膜的批量化生产
光学薄膜制备柔性基材化学气相沉积光学薄膜层过渡层基材光学薄膜制备塑料柔性薄膜磁控溅射法本底真空磁控溅射复合镀膜光学镀膜塑料基材抽真空结合力批量化氧化硅磁控制作加工生产

[发明专利]一种用于提高光学薄膜光学性能的制备方法-CN202010422924.6在审
发明人：郭春;孔明东 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于提高光学薄膜光学性能的制备方法，属于真空镀膜技术领域，主要针对光学薄膜制备过程中，光学薄膜表面粗糙度随膜层增加而增加，影响光学薄膜的反射率以及透过率光谱；以及光学薄膜膜层材料的化学计量比失衡，引起光学薄膜吸收损耗增加。基于高能离子束刻蚀技术，通过优化光学薄膜制备工艺参数，并在每层薄膜材料制备后，采用优化的离子束刻蚀参数对刚制备的光学薄膜进行在线处理，实现对光学薄膜结构致密性、表面粗糙度和化学计量比的优化，最终实现高性能光学薄膜的制备目的
一种用于提高光学薄膜光学性能制备方法

[发明专利]一种用于制备光学薄膜的方法-CN201510292686.0有效
发明人：郭春;李斌成;孔明东 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2015-06-01 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于制备高性能光学薄膜的方法，首先，按照光学薄膜性能需要，设计初始膜系，并采用物理气相沉积技术制备光学薄膜；使用分光光度计或者椭偏仪对光学薄膜性能进行表征；建立光学薄膜结构模型，实现膜料特征参数与光学薄膜性能关联；对光学薄膜实测特性数据进行反演，通过多参数拟合确定膜料特征参数，同时获取物理气相沉积技术制备光学薄膜过程中膜料物理厚度控制的系统误差和延迟误差校正因子；依据获得的膜料特征参数，按照光学薄膜性能要求，重新优化光学薄膜膜系设计，结合膜料物理厚度控制误差修正，采用物理气相沉积技术制备高性能光学薄膜。本发明能全面优化光学薄膜设计，提高膜料物理厚度控制精度，适用于各种高性能光学薄膜制备。
一种用于制备性能光学薄膜方法

[发明专利]一种硅光学薄膜的制备方法-CN202010297220.0在审
发明人：朱民稷 -专利权人：苏州市唯嘉光学有限公司
申请日： 2020-04-15 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： C23C14/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅光学薄膜的制备方法，采用单晶硅作为镀膜材料，采用物理气相沉积法制备的硅光学薄膜；本发明制备的硅光学薄膜能够大幅提高光学薄膜的折射率，可实现较少层数的光学薄膜替代现有较多层的光学薄膜，大幅减小光学器件的厚度，进而有效降低红外光学薄膜器件的制作成本。
一种光学薄膜制备方法

[发明专利]一种薄膜分色镜装置及制备方法-CN202111082162.0有效
发明人：谭淞年;王烨菲;许永森;姚园;沈宏海 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G02B27/10 文献下载
摘要：本申请提供的薄膜分色镜装置，包括光学薄膜(1)、分色镜外框(2)、外框压圈(3)、薄膜内框压圈(4)及薄膜内框(5)，上述薄膜分色镜装置使得光学薄膜(1)被薄膜内框(5)和薄膜内框压圈(4)压紧，组装成一体，为光学薄膜内框组件，光学薄膜内框组件安装在分色镜外框(2)上，通过对光学薄膜内框组件预紧，实现光学薄膜的展平；镀膜后，光学薄膜(1)会发生褶皱，通过进一步的预紧，再一次对光学薄膜(1)进行展平；通过分色镜外框(2)上的螺钉孔，对光学薄膜内框组件进行注胶固定。上述薄膜分色镜装置的制备方法，制备工艺简单。
一种薄膜分色镜装置制备方法

[发明专利]一种可印刷的多孔光学薄膜及其制备方法与应用-CN202210659508.7在审
发明人：韩宏伟;梅安意;王夏冬 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2022-06-10 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本发明公开了一种可印刷的多孔光学薄膜及其制备方法与应用，其中制备方法包括：将纳米颗粒、纤维素和松油醇混合，得到浆料，通过丝网印刷将在浆料刷在基底上；对印刷浆料的基底加热去除其中的纤维素，得到多孔光学薄膜；通过调节浆料中纤维素的含量，改变多孔光学薄膜的孔隙率，进而调节多孔光学薄膜的折射率。浆料中纤维素的含量增加，多孔光学薄膜的孔隙率增大，多孔光学薄膜的折射率减小；浆料中纤维素的含量减少，多孔光学薄膜的孔隙率减小，多孔光学薄膜的折射率增大。本发明采用丝网印刷的方法制备光学薄膜，薄膜稳定性和光学性能都较好，制备工艺简单，成本较低，且易于大规模生产，薄膜折射率在大范围内可连续调节，使用范围极广。
一种可印刷多孔光学薄膜及其制备方法应用

[发明专利]一种测量光学薄膜内外雾度的方法-CN202211019008.3有效
发明人：刁锐敏;颜红莲;武小刚;唐子杰;谢雨 -专利权人：龙华相位新材料（绵阳）股份有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G01N21/59 文献下载
摘要：一种测量光学薄膜内外雾度的方法，包括步骤：步骤01，通过雾影仪测量出待测光学薄膜的总体雾度H0；步骤02，选取辅助液；步骤03，选取四片对比光学薄膜；步骤04，通过样品制备架制备出多块尺寸相等的第一光学薄膜样品；步骤05，通过雾影仪测量出第一光学薄膜样品的雾度H01，或以标准片的形式对第一光学薄膜样品进行校准；步骤06，通过样品制备架制备出多块尺寸相等的第二光学薄膜样品；步骤07，通过雾影仪测量出第二光学薄膜样品的雾度Hi；步骤08，计算得出Hs待测光学薄膜的表面雾度。方便进行雾度检测样品的制备，并且能够确保外表面雾度检测结果的准确性。
一种测量光学薄膜内外方法

[发明专利]红外光学薄膜保护膜及其制备方法-CN201610359598.2有效
发明人：李刚正;孙英会 -专利权人：光驰科技（上海）有限公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G02B1/14 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜制备技术，具体涉及一种红外光学薄膜保护膜及其制备方法，其特征在于：所述保护膜镀于红外光学薄膜的外层，所述保护膜为至少包含有一个非水解基团和一个可水解基团的有机硅化物；在镀膜设备中利用电子枪或阻蒸方法在基板上制备多层红外光学薄膜，在同一镀膜设备中利用阻蒸方法在所述多层红外光学薄膜外层制备保护膜。本发明的优点是：1）能够有效保护红外光学薄膜，硬度高，抗摩擦性佳，同时对红外光学薄膜的特性改变较小。2）与常规红外光学薄膜的制备方法兼容，工艺匹配性比较好，镀膜温度较低，成本相应降低。
红外光学薄膜保护膜及其制备方法

[发明专利]光学薄膜的制备方法及光学薄膜、显示装置-CN202011124978.0在审
发明人：吴永伟 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-10-20 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： C08J9/28 文献下载
摘要：本申请公开了一种光学薄膜的制备方法及光学薄膜、显示装置，且所述方法包括：S10、采用复合溶液制备第一薄膜；S20、将所述第一薄膜浸入第一溶剂，以得到凝胶薄膜；以及S30、对所述凝胶薄膜进行干燥处理，以得到所述光学薄膜；相比于现有技术，本申请提升了光学薄膜内量子点的光吸收及光发射取出效率，并提高了光学薄膜的光转换效率。
光学薄膜制备方法显示装置

[发明专利]一种低面形光学薄膜的制备方法-CN202010948623.7在审
发明人：白金林;刘华松;姜玉刚;王利栓;李子杨 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2020-09-10 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种低面形光学薄膜的制备方法，通过预先计算光学薄膜元件镀膜后面形变化情况，预测同种工艺下镀膜后薄膜元件面形变化；然后对光学薄膜待镀元件基底预加工出与变形方向相反的面形，来补偿镀膜后膜层应力造成的光学薄膜元件面形变化，可实现低面形光学薄膜的制备。结果表明，本发明方法具有单面镀膜面形可控，工艺可操作性强和成品率高等优点，对光学薄膜元件的面形精度提升具有重要的作用。
一种低面形光学薄膜制备方法

[发明专利]一种光学薄膜及其制备方法-CN201810813561.1在审
发明人：张彦;张毅;李刚;余洋;陈建文;顾春红;于振江;唐海江 -专利权人：宁波激智科技股份有限公司
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：本发明涉及光学薄膜领域，具体涉及一种光学薄膜及其制备方法。为了解决现有防窥膜会产生辉度降低的问题，本发明提供一种光学薄膜及其制备方法。所述的光学薄膜从下到上依次包括光路准直结构层、基膜层、匀光扩散层、光线筛选结构层、表面保护层。本发明提供的光学薄膜同时具有较高的辉度增益和防窥效果。
光学薄膜制备结构层防窥表面保护层光路准直光线筛选辉度增益基膜层扩散层辉度匀光

[发明专利]一种用于低应力全介质光学薄膜的制备方法-CN202010422923.1有效
发明人：郭春;孔明东 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于低应力全介质光学薄膜的制备方法，属于真空镀膜技术领域，主要针对全介质光学薄膜中限制薄膜机械特性进而影响光学系统的光束传输和成像质量的关键因素——应力，采用高能辅助沉积技术，通过优化光学薄膜制备工艺参数，实现总应力小于2MPa的全介质光学薄膜制备。相对于传统的镀膜前光学元件镀膜面预加工、镀膜后光学元件背面拉面形，或者高温退火后处理等技术，本发明操作流程简单、执行成本低，适用于各种材质、尺寸和形状的光学元件低应力全介质光学薄膜制备。
一种用于应力介质光学薄膜制备方法

[发明专利]一种光学薄膜及其制备方法、光学薄膜元件-CN202310499280.4在审
发明人：江松涛;曾强 -专利权人：北京创思镀膜有限公司
申请日： 2023-05-05 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学薄膜及其制备方法、光学薄膜元件，涉及光学技术领域，目的是避免因机台系数的变化、导致镀膜产品不满足指标要求的问题，从而提升镀膜产品的性能和质量。该制备方法包括：确定各薄膜层的实际设计厚度；确定各薄膜层的镀制厚度；按照各薄膜层的镀制厚度，在基片上形成光学薄膜；确定各薄膜层的实际设计厚度包括：确定各薄膜层的初始设计厚度；确定各薄膜层的虚拟镀制厚度；通过软件仿真技术，在虚拟基片上形成虚拟光学薄膜，以得到虚拟光学薄膜元件；对虚拟光学薄膜元件进行虚拟光学特性测试；判断虚拟光学特性曲线是否满足设计要求；若否，调整至少一层薄膜层的初始设计厚度。
一种光学薄膜及其制备方法元件

[实用新型]一种光学薄膜-CN201821167551.7有效
发明人：张彦;张毅;李刚;余洋;陈建文;顾春红;于振江;唐海江 -专利权人：宁波激智科技股份有限公司
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2019-08-09 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及光学薄膜领域，具体涉及一种光学薄膜及其制备方法。为了解决现有防窥膜会产生辉度降低的问题，本实用新型提供一种光学薄膜及其制备方法。所述的光学薄膜从下到上依次包括光路准直结构层、基膜层、匀光扩散层、光线筛选结构层、表面保护层。本实用新型提供的光学薄膜同时具有较高的辉度增益和防窥效果。
光学薄膜本实用新型结构层防窥制备表面保护层光路准直光线筛选辉度增益基膜层扩散层辉度匀光

[发明专利]一种光学薄膜强化方法及激光强化装置-CN201811047931.1有效
发明人：许乔;李亚国;耿锋;欧阳升;王度;袁志刚;刘志超;金会良;王健;张清华 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本公开提供一种光学薄膜强化方法及激光强化装置，涉及激光技术领域。本公开提供的光学薄膜强化方法应用于激光强化装置，所述激光强化装置预存有激光功率与光学薄膜参考样品表面温度的对应关系，所述光学薄膜是由原子层沉积法制备所得；所述方法包括：以第一预设温度对应的第一功率对待处理的光学薄膜进行激光扫描；扫描完成后，以第二预设温度对应的第二功率对扫描过后的光学薄膜进行二次激光扫描；其中，所述第一预设温度高于所述第二预设温度。该光学薄膜强化方法及激光强化装置对原子层沉积法制备的光学薄膜进行激光扫描热处理，实现了对薄膜的可靠强化。
一种光学薄膜强化方法激光装置

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