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[实用新型]一种纳米波导镜片及AR显示装置-CN201921184611.0有效
发明人：李瑞彬;罗明辉;乔文;李玲;周振;熊金艳 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：一种纳米波导镜片，包括波导衬底、介质膜和纳米光栅，介质膜设置在波导衬底上，纳米光栅设置在介质膜上，纳米光栅与介质膜形成夹角，波导衬底的折射率与纳米光栅的折射率相同，纳米光栅的折射率大于介质膜的折射率。
一种纳米波导镜片 ar 显示装置

[发明专利]一种用于制备氮化物电子器件的复合衬底及其制备方法-CN201710137611.4在审
发明人：罗睿宏;梁智文;张国义 -专利权人：东莞市中镓半导体科技有限公司
申请日： 2017-03-09 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种用于制备氮化物电子器件的复合衬底及其制备方法，所述复合衬底包括硅衬底、氮化铝层和图形化介质膜，氮化铝层制备在硅衬底上，图形化介质膜制备在氮化铝层上，该图形化介质膜具有若干个，并且相邻的图形化介质膜之间具有间隔间隙，图形化介质膜的图形化为圆形、三角形、多边形或者条纹状，图形化介质膜由二氧化硅、氮化硅、氮化钛、金属介质层或多晶氧化铝制成。
一种用于制备氮化物电子器件复合衬底及其方法

[实用新型]一种介质膜收卷机-CN201320418813.3有效
发明人：林爱民 -专利权人：中荣印刷（天津）有限公司
申请日： 2013-07-15 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： B65H18/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种介质膜收卷机，其涉及收卷机。在所述介质膜收卷机中，U型钢支架固定安装在卷筒纸上的上纸架和主机之间，U型钢支架上方安装收膜轴，U型钢支架右侧安装传动电动机，传动电动机和收膜轴相连接，控制电箱与传动电动机相连接。本实用新型提供的介质膜收卷机操作方便，能正常分切介质膜卷筒纸，回收卷筒纸上分离的介质膜，使现有的分切机能分切并回收介质膜，不需要购买专用的设备，节约了生产成本。
一种介质膜收卷机

[实用新型]彩色背光显示屏-CN02256737.2无效
发明人： -专利权人：
申请日： 2002-09-19 - 公布日： 2003-08-20 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：该发光板包括导光介质膜、导光板、发光管、反光介质膜和挡光介质膜，导光板的上表面贴附导光介质膜，下表面贴附反光介质膜，导光板的其中一侧固定有发光管，导光板的四周贴附挡光介质膜。发光二极管发出的彩色光线经过反光介质和挡光介质的反射几次通过导光板，最后经导光介质膜发射出去，均匀的彩色光线穿过无色全透液晶显示屏，呈现出彩色的背光效果。
彩色背光显示屏

[发明专利]屏蔽栅功率MOSFET及其制造方法-CN201610357095.1在审
发明人：李东升 -专利权人：深圳尚阳通科技有限公司
申请日： 2016-05-26 - 公布日： 2016-09-21 - 主分类号： H01L29/78 文献下载
摘要：本发明公开了一种屏蔽栅功率MOSFET，原胞包括：沟槽，形成于外延层中；屏蔽电极，形成于沟槽底部；屏蔽电极和沟槽的内侧表面之间隔离有屏蔽介质膜；沟槽栅电极，形成于沟槽顶部；沟槽栅电极底部通过栅极间隔离介质膜和屏蔽电极隔离；沟槽栅电极和沟槽的侧面之间隔离有栅介质膜；形成于外延层中的沟道区；屏蔽介质膜包括掺杂氧化膜，通过掺杂来降低屏蔽介质膜的介电常数；通过降低屏蔽介质膜的介电常数来降低屏蔽介质膜的厚度并使屏蔽栅功率MOSFET
屏蔽功率 mosfet 及其制造方法

[发明专利]折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜-CN201910419245.0在审
发明人：李军旗;曾一鑫 -专利权人：信利光电股份有限公司
申请日： 2019-05-20 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜，包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化传统的介质膜的折射率固定不变，本发明中，采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，可以据需求实现多种颜色膜的制备
介质膜氮气颜色膜氧气折射率镀膜基板折射率变化真空镀膜法反应气体可变的靶材硅靶沉积制备镀膜成本镀膜工艺配置要求设备投入需求实现传统的对设备多变性

[发明专利]半导体结构的制造方法-CN202310067594.7在审
发明人：裴常进 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-01-12 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种半导体结构的制造方法，半导体结构的制造方法包括：提供基底，基底内具有沿基底正面向背面延伸的沟槽；在基底正面形成填充满沟槽的可流动性电介质膜，且可流动性电介质膜顶面高于基底正面；在第一温度条件下，对可流动性电介质膜进行第一退火处理，形成第一电介质膜；在进行第一退火处理之后，去除位于基底正面部分厚度的第一电介质膜；在第二温度条件下，对剩余的第一电介质膜进行第二退火处理，以形成第二电介质膜，其中，
半导体结构制造方法

[发明专利]半导体太阳电池表面的多层金属纳米颗粒结构及制备方法-CN201210311033.9无效
发明人：徐锐;王晓东;时彦朋;刘雯;徐晓娜 -专利权人：中国科学院半导体研究所
申请日： 2012-08-28 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：一种半导体太阳电池表面的多层金属纳米颗粒结构的制备方法，包括如下步骤：步骤1：在半导体太阳能电池的表面生长一层第一介质膜；步骤2：在第一介质膜上生长一层金属纳米颗粒；步骤3：在金属纳米颗粒的上面再生长一层第二介质膜，并对第二介质膜进行平坦化处理；步骤4：在第二介质膜上生长一层金属纳米颗粒；步骤5：重复步骤3和步骤4，使在第一介质膜的表面重复交替生长金属纳米颗粒和第二介质膜，最后一层为金属纳米颗粒。
半导体太阳电池表面多层金属纳米颗粒结构制备方法

[实用新型]一种投影显示系统-CN201920709920.9有效
发明人：金波;艾曼灵;吴江波;顾培夫;李冰霞 -专利权人：杭州科汀光学技术有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2020-03-03 - 主分类号： G02B1/116 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种采用抗静电的宽带高透射减反射膜的投影显示系统，包括基底以及设置在所述基底上的多层膜；所述的多层膜包括一层透明导电膜以及高折射率电介质膜、中间折射率电介质膜、次低折射率电介质膜和低折射率电介质膜，或者，所述的多层膜包括一层透明导电膜以及高折射率电介质膜、中间折射率电介质膜和低折射率电介质膜；所述的透明导电膜为半导体薄膜，为氧化铟膜、氧化锡膜，氧化锌膜或铟锡氧化物膜等。
一种投影显示系统

[发明专利]一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法-CN201711368315.1在审
发明人：时庆文;李素云;周伟杰 -专利权人：信利光电股份有限公司
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法，包括：S1.提供一基板；S2.在所述基板上形成介质膜层，所述介质膜层覆盖在所述基板朝向观测一侧的表面上，所述介质膜层包括至少一层高折射率光学膜层以及至少一层低折射率光学膜层，高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠设置；S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层，颜色稳定层的材质是透明的，折射率为1.38‑1.7，所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm。本发明通过在介质膜层上设置材料为透明材料，折射率为1.38‑1.7、且厚度大于0.5μm的颜色稳定层，对介质膜层的光谱影响较小，减弱或消除脏污、指纹和光学介质膜产生的干涉效应对介质膜层颜色产生的变化，改善盖板的颜色稳定性
介质膜层颜色稳定颜色稳定性光学膜层盖板基板低折射率折射率电子产品光学介质膜折射率光学干涉效应高折射率交替层叠设置材料透明材料颜色产生透明的光谱膜层脏污指纹观测覆盖

[发明专利]半导体激光器装置-CN200410031302.1有效
发明人：松冈裕益;国次恭宏;西口晴美;八木哲哉;中川康幸;堀江淳一 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： H01S5/028 文献下载
摘要：低反射膜从与激光器芯片接触的一侧开始依次由折射率为n1及膜厚为d1的第1介质膜、折射率为n2及膜厚为d2的第2介质膜、折射率为n3及膜厚为d3的第3介质膜、折射率为n4及膜厚为d4的第4介质膜形成，具体地，第1介质膜上使用折射率n1＝1.638的氧化铝Al₂O₃、在第2介质膜及第4介质膜上使用折射率n2＝n4＝1.489的氧化硅SiO₂、在第3介质膜上使用折射率n3＝2.063的氧化钽Ta₂O₅。
半导体激光器装置

[发明专利]半导体激光器装置-CN200610055079.3有效
发明人：松冈裕益;国次恭宏;西口晴美;八木哲哉;中川康幸;堀江淳一 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： H01S5/028 文献下载
摘要：低反射膜从与激光器芯片接触的一侧开始依次由折射率为n1及膜厚为d1的第1介质膜、折射率为n2及膜厚为d2的第2介质膜、折射率为n3及膜厚为d3的第3介质膜、折射率为n4及膜厚为d4的第4介质膜形成，具体地，第1介质膜上使用折射率n1＝1.638的氧化铝Al₂O₃、在第2介质膜及第4介质膜上使用折射率n2＝n4＝1.489的氧化硅SiO₂、在第3介质膜上使用折射率n3＝2.063的氧化钽Ta₂O₅。
半导体激光器装置

[实用新型]一种可钢化的三银LOW-E玻璃-CN201520473176.9有效
发明人：邱高忠;韩君晖;陈大伟 -专利权人：太仓耀华玻璃有限公司
申请日： 2015-06-30 - 公布日： 2015-10-28 - 主分类号： B32B9/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种可钢化的三银LOW-E玻璃，包括：玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上表面的第一电介质膜层、第一阻挡层、第一银层、第二阻挡层、第二电介质膜层、第三阻挡层、第二银层、第四阻挡层、第三电介质膜层、第五阻挡层、第三银层、第六阻挡层以及第四电介质膜层；所述第一电介质膜层为Si₃N₄层，第二电介质膜层为ITO氧化铟锡层，第三电介质膜层为氧化铬膜层，第四电介质膜层为Si₃N₄层；所述第一~第六阻挡层为Cu-N层或Cu-O层。
一种可钢化 low 玻璃

[实用新型]一种偏振无关的光学角度滤波器-CN202222933990.7有效
发明人：许天宇;陈奕宏;陈灿;赖建军 -专利权人：华中科技大学鄂州工业技术研究院;华中科技大学
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种偏振无关的光学角度滤波器，涉及光学技术领域，光学角度滤波器包括：第一介质膜层，第一介质膜层设置于第一金属膜层的上表面；第三介质膜层的上表面与第一金属膜层的下表面连接，第二金属膜层的上表面与第三介质膜层的下表面连接，第四介质膜层的上表面与第二金属膜层的下表面连接，第三金属膜层的上表面与第四介质膜层的下表面连接，第三金属膜层的下表面与第二介质膜层的上表面连接，玻璃衬底设置于第二介质膜层的下表面。
一种偏振无关光学角度滤波器

[发明专利]介质圆柱透镜及介质膜、介质圆柱透镜制作方法-CN202010597042.3有效
发明人：吕晨熙;黄卫 -专利权人：北京高信达通信科技股份有限公司
申请日： 2020-06-28 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： H01Q15/08 文献下载
摘要：本发明公开一种介质圆柱透镜、介质膜和介质圆柱透镜制作方法，解决现有天线参数一致性差，散射较大，双向通信干扰较多的问题。一种介质圆柱透镜，透镜结构为由介质材料同心环绕而成的圆柱体；所述介质材料包含介质膜，所述介质膜由向纤维素溶解液或纸浆中混合陶瓷粉制作而成。一种介质圆柱透镜制作方法，将预设的介质透镜各层介电常数作为复合层结构的目标等效介电常数；调整陶瓷粉剂量，制成符合所述目标等效介电常数的介质膜或复合层结构，将所述介质膜或复合层结构同心缠绕成圆柱体。
介质圆柱透镜制作方法