专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]封装方法及封装结构-CN202111508769.0在审
  • 张镇凯;刘孟彬 - 中芯集成电路(宁波)有限公司
  • 2021-12-10 - 2022-04-22 - H01L21/768
  • 一种封装方法及封装结构,封装方法包括:提供基底、以及第一芯片,基底具有第一待键合面,第一待键合面上形成有第一互连电极,第一芯片具有第二待键合面,第二待键合面上形成有第二互连电极;利用键合层使第一待键合面和第二待键合面相键合,第一互连电极与第二互连电极错位相对,或者,第一互连电极在横向上避开第二互连电极设置,且第一互连电极与第二互连电极在纵向上具有间隙,键合层避开第一互连电极和第二互连电极设置;在第一互连电极与第二互连电极之间形成互连结构,互连结构包覆第一互连电极和第二互连电极,并填充于间隙中,用于实现第一互连电极与第二互连电极之间的电连接。
  • 封装方法结构
  • [发明专利]电极互连结构-CN201910998482.7在审
  • I·G·金;R·A·奥格尔 - 格芯公司
  • 2019-10-21 - 2020-05-29 - H01L23/528
  • 本公开涉及半导体结构,更具体地,顶电极互连结构以及制造方法。该结构包括:下金属化特征;上金属化特征;与下金属化特征直接接触的底电极;位于底电极之上的一种或多种开关材料;位于一种或多种开关材料之上的顶电极;以及与顶电极和上金属化特征接触的自对准过孔互连
  • 电极互连结构
  • [发明专利]半导体模块-CN201510097890.7在审
  • 松山宏 - 株式会社东芝
  • 2015-03-05 - 2016-11-23 - H01L23/522
  • 根据一个实施例,一种半导体模块包含:衬底;第一互连层,设置于所述衬底上;多个第一半导体元件,设置于所述第一互连层上,所述多个第一半导体元件的每一个包含:第一电极、第二电极及第三电极,且所述第二电极电连接到所述第一互连层;多个第一整流元件,设置于所述第一互连层上,所述多个第一整流元件的每一个包含第四电极及第五电极,且所述第五电极电连接到所述第一互连层;以及第二互连层,设置于所述衬底上,且所述第二互连层电连接到所述第一电极及所述第四电极;其中所述第二互连层在所述第二互连层的表面上包含凹凸结构,或所述第一互连层在所述第一互连层的表面上包含凹凸结构。
  • 半导体模块
  • [实用新型]多层硅基电容器电极连接结构-CN201220517257.0有效
  • 雷鸣;唐剑平;陈杰;陈立军 - 无锡纳能科技有限公司
  • 2012-10-10 - 2013-04-24 - H01G4/30
  • 本实用新型涉及一种多层硅基电容器电极连接结构,属于高密度硅基电容器的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述多层硅基电容器电极连接结构,包括衬底;所述衬底内设置若干槽型的面积扩张区域;在所述衬底的面积扩张区域内设置若干内部电极层;所述内部电极层包括奇数内部电极层及与所述奇数内部电极层交替分布的偶数内部电极层,所述偶数内部电极层与奇数内部电极层间设置介质层;衬底的上表面上设置互连电极层,所述互连电极层包括用于与偶数内部电极层电连接的偶数互连电极及用于与奇数内部电极层电连接的奇数互连电极,所述偶数互连电极与奇数互连电极间绝缘隔离
  • 多层电容器电极连接结构
  • [发明专利]一种晶圆级系统封装方法-CN202110130752.X在审
  • 黄河;刘孟彬;向阳辉 - 中芯集成电路(宁波)有限公司
  • 2021-01-29 - 2022-07-29 - H01L21/60
  • 本发明公开了一种晶圆级系统封装方法,包括:提供器件晶圆,其包括多个第一芯片,第一芯片具有暴露出器件晶圆上表面且相间隔的第一互连电极和外接电极;通过电镀工艺在外接电极上形成外接导电凸块,在第一互连电极上形成互连导电凸块;提供多个第二芯片和多个互连芯片,第二芯片的下表面具有裸露的第二互连电极互连芯片中形成有互连结构,互连芯片的下表面暴露部分互连结构;将第二芯片和互连芯片键合在器件晶圆的上表面,并使第二互连电极互连导电凸块电连接,互连芯片的互连结构与外接导电凸块电连接。本发明通过互连芯片将芯片模块的电性从器件晶圆的上表面引出,减小对器件晶圆的损伤,提高封装兼容性和可靠性。
  • 一种晶圆级系统封装方法
  • [发明专利]半导体封装结构-CN201210444153.6有效
  • 林仲珉;陶玉娟 - 南通富士通微电子股份有限公司
  • 2012-11-08 - 2013-02-27 - H01L23/488
  • 一种半导体封装结构,包括:芯片,所述芯片表面具有金属互连结构,位于所述芯片表面且暴露出所述金属互连结构的绝缘层;位于所述金属互连结构上的柱状电极,所述柱状电极周围暴露出部分金属互连结构;位于所述柱状电极侧壁表面、顶部表面、柱状电极周围暴露出的金属互连结构表面的扩散阻挡层;位于所述扩散阻挡层表面的焊球,所述焊球至少包裹在所述柱状电极顶部和侧壁的表面。由于所述扩散阻挡层位于所述柱状电极侧壁表面、顶部表面和柱状电极周围的金属互连结构表面,使得柱状电极与所述焊球相隔离,不会形成锡铜界面合金化合物,且所述扩散阻挡层能提高柱状电极和金属互连结构表面的结合力,使得柱状电极不容易从金属互连结构表面脱离。
  • 半导体封装结构
  • [实用新型]半导体封装结构-CN201220586076.3有效
  • 林仲珉 - 南通富士通微电子股份有限公司
  • 2012-11-08 - 2013-05-01 - H01L23/488
  • 一种半导体封装结构,包括:芯片,所述芯片表面具有金属互连结构,位于所述芯片表面且暴露出所述金属互连结构的绝缘层;位于所述金属互连结构上的柱状电极,所述柱状电极周围暴露出部分金属互连结构;位于所述柱状电极侧壁表面、顶部表面、柱状电极周围暴露出的金属互连结构表面的扩散阻挡层;位于所述扩散阻挡层表面的焊球,所述焊球至少包裹在所述柱状电极顶部和侧壁的表面。由于所述扩散阻挡层位于所述柱状电极侧壁表面、顶部表面和柱状电极周围的金属互连结构表面,使得柱状电极与所述焊球相隔离,不会形成锡铜界面合金化合物,且所述扩散阻挡层能提高柱状电极和金属互连结构表面的结合力,使得柱状电极不容易从金属互连结构表面脱离。
  • 半导体封装结构
  • [发明专利]晶圆级封装方法以及封装结构-CN202010673271.9在审
  • 黄河;刘孟彬;向阳辉 - 中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司
  • 2020-07-14 - 2022-01-14 - H01L21/56
  • 一种晶圆级封装方法以及封装结构,方法包括:提供有多个第一芯片的晶圆,包括相对的第一表面和第二表面,第一表面有第一互连电极和外接电极;提供多个第二芯片和多个互连芯片,第二芯片表面有第二互连电极互连芯片包括第三表面和第四表面,互连芯片中有互连结构,第三表面暴露部分互连结构;将第二芯片和互连芯片键合于第一表面上;形成第一互连凸块,用于实现第一互连电极和第二互连电极电连接,形成第二互连凸块,用于实现外接电极互连结构电连接。本发明实现晶圆级封装,且通过互连芯片将第一芯片和第二芯片构成的芯片模块的引出端引至第一表面一侧,从而减小对晶圆的损伤,且适用于各种晶圆的系统集成,进而提高封装兼容性和可靠性。
  • 晶圆级封装方法以及结构
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202010567174.1在审
  • 周飞 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2020-06-19 - 2021-12-21 - H01L23/528
  • 一种半导体结构及其形成方法,半导体结构包括:衬底;位于衬底上的若干第一电极层和第二电极层;位于衬底上的第一互连层和第二互连层;位于衬底上的若干第一导电插塞和若干第二导电插塞,每根第一导电插塞与第一互连层或第二互连层连接,每根第二导电插塞与第一电极层或第二电极层连。通过将第一导电插塞与第一互连层或第二互连层连接,第二导电插塞与第一电极层或第二电极层连接,使得整体的导电插塞的数量增加,降低第一互连层、第二互连层、第一电极层以及第二电极层与其他器件结构之间的接触电阻,提升电容器的品质因数;另外,由于第二导电插塞与第一电极层或第二电极层连接,不需要额外占用空间,使得最终形成的半导体结构的集成度提升。
  • 半导体结构及其形成方法

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