专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种剥离单晶薄膜的方法-CN201910690097.6有效
  • 江安全;陈一凡;张岩;江钧;柴晓杰 - 复旦大学
  • 2019-07-29 - 2023-07-04 - H01L21/683
  • 本发明涉及一种剥离单晶薄膜的方法,包括以下步骤:使用质子交换法在单晶材料表面形成厚度可控的贫Li离子的第单晶层;采用离子注入法剥离出铁电单晶材料表面发生质子交换的所述第单晶层,获得薄膜层;使用反质子交换法补充所述薄膜层中缺失的Li离子,将薄膜层还原至原先单晶材料的晶体结构和化学配比。与现有技术相比,本发明将质子交换法和离子束剥离技术相结合,降低使用离子束剥离制造大面积单晶薄膜的难度,使离子束剥离单晶薄膜更加有效快捷,可应用于电存储器和电晶体管制造等领域,降低电存储材料的制造成本
  • 一种剥离铁电单晶薄膜方法
  • [发明专利]一种介孔三氧化单晶及其水热制备方法-CN202211051582.7有效
  • 李伟;杨东;赵亮 - 上海旦元新材料科技有限公司
  • 2022-08-31 - 2023-09-05 - C30B29/16
  • 本发明涉及单晶材料制备技术领域,尤其涉及一种介孔三氧化单晶及其水热制备方法。其主要针对现有手段中纳米三氧化的活性受限于传质与活性位点数量,制备单晶材料费时费力、成本高等问题,提出如下技术方案:所述介孔三氧化单晶为梭型形貌,颗粒长宽尺寸分别为160‑500nm、90‑270nm;所述介孔三氧化单晶的比表面积为20‑50m2/g,孔容为0.10‑0.30cm3/g;其中介孔为球形孔,孔径分布为本发明制备的成本低,可等比例放大,在能源、热催化、光(电)催化、催化剂载体等众多领域具有广泛的应用前景,主要应用于单晶介孔材料的合成。
  • 一种介孔三氧化二铁单晶及其制备方法
  • [发明专利]一种单晶薄膜及其制备方法-CN202111484387.9在审
  • 丑修建;毕开西;薛刚;梅林玉;穆继亮;何剑;侯晓娟 - 中北大学
  • 2021-12-07 - 2022-05-10 - H01L21/425
  • 本申请提供了一种单晶薄膜及其制备方法,包括:清洗单晶与衬底表面;将衬底与单晶进行间接键合,同时与基板进行临时键合;采用不同粒径的磨料对单晶进行减薄抛光;将抛光后的单晶从基板表面剥离,清洗单晶表面,得到单晶薄膜。本申请通过间接键合与化学机械抛光方法代替离子注入方法,可以避免由离子注入引起的薄膜表面晶格损伤,进而获得低厚度、高平整度、低损伤的单晶薄膜,满足高精度器件制备需求,可应用于集成电路制造,微传感器、微执行器等功能元件的制造;可以实现常温环境下制备,减少了在低温—高温—低温的变换过程中铁电单晶由于热失配原因而产生的变形、碎裂等问题,提高产物的成品率。
  • 一种铁电单晶薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种酸钴柔性单晶薄膜的制备方法-CN202010834451.0在审
  • 尹志岗;张兴旺;吴金良 - 中国科学院半导体研究所
  • 2020-08-18 - 2022-02-22 - C30B29/22
  • 一种酸钴柔性单晶薄膜的制备方法,包括:在刚性衬底上生长氧化锌缓冲层,在氧化锌缓冲层上外延生长酸钴单晶薄膜,在酸钴单晶薄膜上旋涂一层溶有黑蜡的有机溶剂,得到黑蜡薄膜保护层,将刚性衬底放置在酸液中湿法腐蚀氧化锌缓冲层,待氧化锌缓冲层腐蚀完毕,得到的具有黑蜡薄膜保护层的酸钴单晶薄膜,将具有黑蜡薄膜保护层的酸钴单晶薄膜转移到柔性薄膜衬底上,并使其在柔性薄膜衬底上静止干燥,使用有机溶剂清洗掉酸钴单晶薄膜上的黑蜡薄膜保护层,得到酸钴柔性单晶薄膜。本公开提供的制备方法具有过程简单、成本低、可控性强等优点,实现了酸钴单晶薄膜的柔性化,对发展基于酸钴的柔性功能器件具有重要意义。
  • 一种铁酸钴柔性薄膜制备方法
  • [发明专利]一种用于测量基超导单晶面内电学性质的样品器件的制备方法-CN202111440009.0在审
  • 滕博伦;王靖珲;李军 - 上海科技大学
  • 2021-11-30 - 2022-04-12 - G01N1/28
  • 本发明提供了一种用于测量基超导单晶面内电学性质的样品器件的制备方法。本发明的制备方法包括:将基超导单晶材料大幅减薄,在其平整的解理面上镀金,光刻并通过氩离子束刻蚀制作环形电极,再通过热蒸发仪喷镀绝缘层,光刻并制作第层绝缘层作为电极保护层,最后通过光刻在保护层上制作引出电极图案,从而制备得到基超导微纳单晶测量器件。本发明以微纳加工技术作为基本工具,根据测量基超导单晶材料遇到的多种问题对电极方案进行了针对性改进。通过大幅减薄样品,制作电极并制作双层绝缘层电极结构,就可以得到基超导微纳单晶测量器件。这种完全基于微纳加工制备的器件能够解决测量基超导超导向列态时遇到的多种实验技术难题。
  • 一种用于测量超导单晶面内电学性质样品器件制备方法

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