[发明专利]半导体装置及其制造方法无效
申请号: | 97182428.2 | 申请日: | 1997-10-30 |
公开(公告)号: | CN1146976C | 公开(公告)日: | 2004-04-21 |
发明(设计)人: | 宫本俊夫;安生一郎;有田顺一;江口州志;北野诚;久保征治;宗像健志;福田琢也 | 申请(专利权)人: | 株式会社日产制作所 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/12;H01L23/498 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的芯片尺寸封装,在半导体芯片(1)的主面上边形成缓和、吸收集中于突点电极(5)上的应力的低弹性的弹性体(2),连接到键合焊盘(7)上的布线(4)通过形成在整个弹性体(2)上的贯通孔被引出到弹性体(2)的上表面上,并连接到突点电极(5)上。集中于突点电极(5)上的应力不仅被弹性体(2)吸收和缓和,也被引出到弹性体(2)的上表面上的用弯曲图形形成的布线(4)的伸缩吸收和缓和。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征是:在半导体晶片主面的多个芯片区域上形成的多个半导体器件和键合焊盘,在所述半导体器件和键合焊盘上形成的弹性体层,把突点电极连接到布线上,该布线的一个端部通过在上述弹性体层上形成了开孔的贯通孔与上述键合焊盘电连,另一个端部则配置到上述弹性体层的上部,上述弹性体层由涂敷到上述半导体晶片的主面上的感光性光刻胶,或者粘接到上述半导体晶片的主面上的感光性薄膜构成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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