[发明专利]半导体集成电路装置无效
| 申请号: | 97122652.0 | 申请日: | 1997-11-26 |
| 公开(公告)号: | CN1113414C | 公开(公告)日: | 2003-07-02 |
| 发明(设计)人: | 飞田洋一 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/08 | 分类号: | H01L27/08 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 姜郛厚,叶恺东 |
| 地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 一种半导体集成电路装置,能使MOS晶体管的栅-源/漏之间施加的电压小,能确保栅极绝缘膜的可靠性。它备有:多个存储单元;对应于各行配置的多条字线;将该字线驱动到选择状态的行选择装置;及将偏压加到衬底区上的偏压施加装置。偏压施加装置包括在激活期间将第1偏压加在上述衬底区域上,在备用期间将与第1偏压极性不同的第2偏压加在衬底区域上的装置。第2偏压和第1电源电压之差的绝对值与驱动电压和第2电源电压之差的绝对值相等。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 集成电路 装置 | ||
【主权项】:
1.一种将第1及第2电源电压作为工作电源电压进行工作的半导体集成电路装置,它备有:排列成行列状且在第1导电型的衬底区域形成的多个存储单元;对应于各上述行配置、连接各自对应的行的存储单元的多条字线;根据地址信号,将绝对值比上述第1电源电压大的驱动电压传输给与地址指定的行对应的字线,并将该字线驱动到选择状态的行选择装置;以及将偏压加到上述衬底区域上用的偏压施加装置,其特征在于:上述偏压施加装置包括在上述地址信号有效且进行存储单元选择工作的激活期间,将第1偏压加在上述衬底区域上,而且在上述行选择装置保持非活化状态的备用期间,以上述第2电源电压为基准,将与上述第1偏压极性不同的第2偏压加在上述衬底区域上的装置,上述第2偏压和上述第1电源电压之差的绝对值实际上与上述驱动电压和上述第2电源电压之差的绝对值相等。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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