[发明专利]一种多量子阱层及其制备方法、外延片及发光二极管在审

专利信息
申请号: 202310968033.4 申请日: 2023-08-03
公开(公告)号: CN116682916A 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 刘春杨;吕蒙普;胡加辉;金从龙;顾伟 申请(专利权)人: 江西兆驰半导体有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/06;H01L33/00
代理公司: 南昌旭瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 36150 代理人: 彭琰
地址: 330000 江西省南昌市南*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种多量子阱层及其制备方法、外延片及发光二极管,所述多量子阱层包括周期性层叠设置的量子阱层、盖帽层以及量子垒层;其中,所述量子阱层为AlScN层、盖帽层为AlSiN层、量子垒层为AlN层。本发明解决了现有技术中的LED的光提取效率低以及多量子阱中电子空穴辐射复合效率低而导致LED发光效率低的问题。
搜索关键词: 一种 多量 子阱层 及其 制备 方法 外延 发光二极管
【主权项】:
暂无信息
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