[发明专利]旁路二极管结构及旁路二极管在审

专利信息
申请号: 202310945873.9 申请日: 2023-07-28
公开(公告)号: CN116936515A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 聂磊;王杭辰 申请(专利权)人: 杭州道铭微电子有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L31/044
代理公司: 杭州宇信联合知识产权代理有限公司 33401 代理人: 田书亚
地址: 310000 浙江省杭州市中国(浙江)自由贸*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种旁路二极管结构,包括第一框架、第二框架、晶粒以及跳片,所述第一框架和第二框架通过跳片连接在一起,所述晶粒焊接在第二框架上,所述跳片上设有晶粒连接端和引脚端,所述晶粒连接端焊接在晶粒上,所述引脚端有两个,分别为第一引脚和第二引脚,所述第一引脚和第二引脚对称地焊接在第一框架上。本发明通过对二极管的结构进行改进,使得电流通过截面积增大,散热面积增大,提高了产品性能。
搜索关键词: 旁路 二极管 结构
【主权项】:
暂无信息
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