[发明专利]一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统

摘要

本发明提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统，涉及半导体生产环境管理技术领域，该方法包括：获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标；得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；得到多个生产区域；进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵，解决现有技术中存由于对不同生产流程的数据分析不够详细，导致存在清洁管理效率低的技术问题，达到提高清洁管理效率和准确性的技术效果。