[发明专利]一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统

权利要求书

1.一种半导体生产环境的监测清洁管理方法，其特征在于，所述方法包括：

获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标，其中，所述车间静态环境指标为车间生产过程中参数变化接近静态的指标，所述车间动态环境指标为车间生产过程中参数变化处于动态的指标；

根据所述车间静态环境指标和所述车间动态环境指标生成矩阵，得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；

通过对所述目标半导体的生产车间进行区域划分，得到多个生产区域，其中，每个生产区域中对应一个生产节点；

通过对所述多个生产区域与所述静态指标矩阵和所述动态指标矩阵进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；

对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；

按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵；

其中，对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，包括：

以所述静态相关向量和所述动态相关向量，生成静态相关矩阵和动态相关矩阵；

其中，每个生产区域均包括一组静态相关矩阵和一组动态相关矩阵，所述静态相关矩阵为所述静态指标矩阵的子集，所述动态相关矩阵为所述动态指标矩阵的子集；

基于所述静态相关矩阵和所述动态相关矩阵进行识别，输出调参系数，基于所述调参系数对各个生产区域进行管理调参；

其中，基于所述静态相关矩阵和所述动态相关矩阵进行识别，输出调参系数，包括：

获取所述静态相关矩阵中大于等于预设相关度的N个向量，其中，N为大于0的正整数；

获取所述动态相关矩阵中大于等于预设相关度的M个向量，其中，M为大于0的正整数；

基于所述N个向量和所述M个向量进行计算，输出所述调参系数；

所述调参系数的计算公式如下：

；

其中，表征调参系数；N表征所述静态相关矩阵中大于等于预设相关度的向量数；M表征所述动态相关矩阵中大于等于预设相关度的向量数；为所述M个向量的均值系数，表征静态相关矩阵；表征动态相关矩阵。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

对所述多个生产区域中各个生产区域的半导体生产过程进行数据监测，得到监测数据集；

按照所述监测数据集进行指标识别，得到监测指标矩阵；

根据所述监测指标矩阵进行变化向量提取，得到变化向量；

基于所述变化向量对所述车间静态环境指标和所述车间动态环境指标进行向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述监测指标矩阵进行变化向量提取，得到变化向量之后，方法还包括：

获取所述多个生产区域中每个生产区域分别对应的静态相关向量和动态相关向量；

对所述多个生产区域中每个生产区域分别对应的静态相关向量和动态相关向量进行相似性识别，得到区域变量相似指数，其中，所述区域变量相似指数用于每两个区域之间的变量的相似程度；

对所述区域变量相似指数处于预设区间的两个区域设置相同管理等级。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，对所述多个生产区域中每个生产区域分别对应的静态相关向量和动态相关向量进行相似性识别，得到所述静态相关向量的相似性系数和所述动态相关向量的相似性系数，每个相似性系数包括：

变化向量的数量指标和变化向量的变化指标幅度，根据所述变化向量的数量指标和变化向量的变化指标幅度进行相似性识别模型的训练，得到所述区域变量相似指数。

5.一种半导体生产环境的监测清洁管理系统，其特征在于，所述系统包括：

环境指标获取模块，所述环境指标获取模块用于获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标，其中，所述车间静态环境指标为车间生产过程中参数变化接近静态的指标，所述车间动态环境指标为车间生产过程中参数变化处于动态的指标；

指标矩阵生成模块，所述指标矩阵生成模块用于根据所述车间静态环境指标和所述车间动态环境指标生成矩阵，得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；

车间区域划分模块，所述车间区域划分模块用于通过对所述目标半导体的生产车间进行区域划分，得到多个生产区域，其中，每个生产区域中对应一个生产节点；

相关向量识别模块，所述相关向量识别模块用于通过对所述多个生产区域与所述静态指标矩阵和所述动态指标矩阵进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；

管理调参模块，所述管理调参模块用于对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；

洁净管理指标矩阵输出模块，所述洁净管理指标矩阵输出模块用于按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵；

相关矩阵生成模块，所述相关矩阵生成模块用于以所述静态相关向量和所述动态相关向量，生成静态相关矩阵和动态相关矩阵；

其中，每个生产区域均包括一组静态相关矩阵和一组动态相关矩阵，所述静态相关矩阵为所述静态指标矩阵的子集，所述动态相关矩阵为所述动态指标矩阵的子集；

调参系数输出模块，所述调参系数输出模块用于基于所述静态相关矩阵和所述动态相关矩阵进行识别，输出调参系数，基于所述调参系数对各个生产区域进行管理调参；

静态向量提取模块，所述静态向量提取模块用途获取所述静态相关矩阵中大于等于预设相关度的N个向量，其中，N为大于0的正整数；

动态向量提取模块，所述动态向量提取模块用于获取所述动态相关矩阵中大于等于预设相关度的M个向量，其中，M为大于0的正整数；

向量计算模块，所述向量计算模块用于基于所述N个向量和所述M个向量进行计算，输出所述调参系数；

所述调参系数的计算公式如下：

；

其中，表征调参系数；N表征所述静态相关矩阵中大于等于预设相关度的向量数；M表征所述动态相关矩阵中大于等于预设相关度的向量数；为所述M个向量的均值系数，表征静态相关矩阵；表征动态相关矩阵。