[发明专利]一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统

说明书

本发明提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统，涉及半导体生产环境管理技术领域，该方法包括：获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标；得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；得到多个生产区域；进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵，解决现有技术中存由于对不同生产流程的数据分析不够详细，导致存在清洁管理效率低的技术问题，达到提高清洁管理效率和准确性的技术效果。

技术领域

本发明涉及半导体生产环境管理技术领域，具体涉及一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统。

背景技术

在科技高速发展的今天，半导体对于经济发展和居民生活都非常重要。大部分的电子产品当中的核心单元，如集成电路，都和半导体有着重要的关联。目前，传统方法中对半导体生产环境的清洁管理主要依靠人工进行管理调整，其智能化程度较低，且由于对不同生产流程的数据分析不够详细，导致存在清洁管理效率低的技术问题。

发明内容

本发明提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统，用以解决现有技术中存在由于对不同生产流程的数据分析不够详细，导致存在清洁管理效率低的技术问题。

根据本发明的第一方面，提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法，包括：获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标，其中，所述车间静态环境指标为车间生产过程中参数变化接近静态的指标，所述车间动态环境指标为车间生产过程中参数变化处于动态的指标；根据所述车间静态环境指标和所述车间动态环境指标生成矩阵，得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；通过对所述目标半导体的生产车间进行区域划分，得到多个生产区域，其中，每个生产区域中对应一个生产节点；通过对所述多个生产区域与所述静态指标矩阵和所述动态指标矩阵进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵。

根据本发明的第二方面，提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理系统，包括：环境指标获取模块，所述环境指标获取模块用于获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标，其中，所述车间静态环境指标为车间生产过程中参数变化接近静态的指标，所述车间动态环境指标为车间生产过程中参数变化处于动态的指标；指标矩阵生成模块，所述指标矩阵生成模块用于根据所述车间静态环境指标和所述车间动态环境指标生成矩阵，得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；车间区域划分模块，所述车间区域划分模块用于通过对所述目标半导体的生产车间进行区域划分，得到多个生产区域，其中，每个生产区域中对应一个生产节点；相关向量识别模块，所述相关向量识别模块用于通过对所述多个生产区域与所述静态指标矩阵和所述动态指标矩阵进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；管理调参模块，所述管理调参模块用于对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；洁净管理指标矩阵输出模块，所述洁净管理指标矩阵输出模块用于按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵。

根据本发明采用的一种半导体生产环境的监测清洁管理方法，本发明对生产目标半导体的车间环境进行分析，得到静态指标矩阵和动态指标矩阵，进一步通过根据生产节点对目标半导体的生产车间进行区域划分，得到多个生产区域，通过对多个生产区域与静态指标矩阵和动态指标矩阵进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量，进而对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果，按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵，实现不同生产节点、不同生产区域进行单独的参数调节，达到提高清洁管理准确度和管理效率的效技术果。