[发明专利]一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备有效
| 申请号： | 202310451018.2 | 申请日： | 2023-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN116174383B | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 吕远芳;杜晓星;张皓楠;李超 | 申请（专利权）人： | 保定三晶电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/14;B08B11/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人： | 李帅 |
| 地址： | 072250 河北省保*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造设备技术领域，公开了一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，该具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备包括清洗柜，所述清洗柜内安装有喷头，所述清洗室和集液室通过回收孔相接通，所述集液室内设置有滤网，当对单晶片上表面进行清洗时，启动循环泵，通过吸液管和输液管将集液室中的清洗液输送到喷头中，通过喷头喷洒清洗液对单晶片进行清洗，由于移动座可以带动喷头沿着模组滑轨移动，便于喷头对单晶片进行全方面的清洗，通过回收孔可以将清洗室中的清洗液回流到集液室中，并且，通过集液室中的滤网可以对回流的清洗液进行过滤，有利于对清洗液中所携带的颗粒杂质进行拦截，能够实现清洗液的循环利用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 循环 利用 功能 晶片 生产 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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