[发明专利]一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备

权利要求书

1.一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，其特征在于：该具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备包括清洗柜（1），所述清洗柜（1）内设置有清洗室（2）和集液室（3），所述清洗室（2）内安装有基座（4），所述基座（4）上开设有置物槽（5），所述清洗室（2）的顶部安装有模组滑轨（6），所述模组滑轨（6）上滑动安装有移动座（7），所述移动座（7）上安装有喷头（8），所述清洗柜（1）上安装有循环泵（9），所述循环泵（9）的输出端与喷头（8）通过输液管（10）相连接，且循环泵（9）的输入端与集液室（3）通过吸液管（11）相连接，所述清洗室（2）和集液室（3）通过回收孔（12）相接通，所述集液室（3）内设置有滤网（13）；

所述清洗柜（1）上设置有清洗防污染组件（14）和清洗防污染利用组件（15），所述清洗防污染组件（14）为清洗防污染利用组件（15）提供运行驱动力；

所述清洗防污染组件（14）包括工作腔（1401）、双轴驱动电机（1402）、穿孔（1403）、转盘（1404）和电动吸盘（1405）；

所述基座（4）内设有工作腔（1401），所述工作腔（1401）内安装有双轴驱动电机（1402），所述工作腔（1401）与置物槽（5）通过穿孔（1403）相接通，所述置物槽（5）内设置有转盘（1404），所述双轴驱动电机（1402）的上输出轴贯穿穿孔（1403）与转盘（1404）相连接，所述转盘（1404）上安装有电动吸盘（1405）；

所述清洗防污染组件（14）包括移动块（1406）、丝孔（1407）、连接弹簧（1408）、连接轴承（1409）、连接环（1410）、传动板（1411）、顶升杆（1412）、第一滑孔（1413）、传动环（1414）和封堵垫（1415）；

所述双轴驱动电机（1402）的上输出轴设有螺纹，且双轴驱动电机（1402）的上输出轴上设置有移动块（1406），所述移动块（1406）上开设有丝孔（1407），所述双轴驱动电机（1402）的上输出轴贯穿丝孔（1407），且双轴驱动电机（1402）的上输出轴与丝孔（1407）螺纹配合，所述移动块（1406）与双轴驱动电机（1402）通过连接弹簧（1408）相连接，所述移动块（1406）通过连接轴承（1409）套设有连接环（1410），所述连接环（1410）上安装有传动板（1411），所述传动板（1411）上安装有顶升杆（1412），所述工作腔（1401）的顶部开设有第一滑孔（1413），所述置物槽（5）内放置有传动环（1414），所述顶升杆（1412）贯穿第一滑孔（1413）与传动环（1414）相连接，所述传动环（1414）上安装有封堵垫（1415）。

2.根据权利要求1所述的一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，其特征在于：所述清洗防污染组件（14）还包括有凸环（1416）、滑道（1417）、固定块（1418）、腔室（1419）、顶板（1420）、支撑弹片（1421）、连接销（1422）、通孔（1423）和连接孔（1424）；

所述传动环（1414）上安装有凸环（1416），所述封堵垫（1415）的底部开设有滑道（1417），所述凸环（1416）与滑道（1417）相嵌合，且凸环（1416）与滑道（1417）为转动配合，所述封堵垫（1415）的底部固定安装有固定块（1418），所述固定块（1418）内设有腔室（1419），所述腔室（1419）内滑动安装有顶板（1420），所述顶板（1420）与腔室（1419）通过支撑弹片（1421）相连接，所述顶板（1420）上安装有连接销（1422），所述腔室（1419）上开设有通孔（1423），所述连接销（1422）贯穿通孔（1423），所述转盘（1404）的侧壁上开设有连接孔（1424）。

3.根据权利要求2所述的一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，其特征在于：所述连接销（1422）和连接孔（1424）上均设有斜面，所述封堵垫（1415）上设有抛离坡（1425），所述连接销（1422）的端部滚动嵌合有接触球，所述接触球与转盘（1404）的侧壁为点接触。