[发明专利]一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备

说明书

本发明涉及半导体制造设备技术领域，公开了一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，该具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备包括清洗柜，所述清洗柜内安装有喷头，所述清洗室和集液室通过回收孔相接通，所述集液室内设置有滤网，当对单晶片上表面进行清洗时，启动循环泵，通过吸液管和输液管将集液室中的清洗液输送到喷头中，通过喷头喷洒清洗液对单晶片进行清洗，由于移动座可以带动喷头沿着模组滑轨移动，便于喷头对单晶片进行全方面的清洗，通过回收孔可以将清洗室中的清洗液回流到集液室中，并且，通过集液室中的滤网可以对回流的清洗液进行过滤，有利于对清洗液中所携带的颗粒杂质进行拦截，能够实现清洗液的循环利用。

技术领域

本发明涉及半导体制造设备技术领域，具体为一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备。

背景技术

锗单晶是不含大角晶界或孪晶的锗晶体，呈金刚石型晶体结构，是重要的半导体材料，现如今，锗单晶片的应用越来越广泛，产量也大大的增加，锗单晶片主要用于三结太阳能电池的衬底材料，与单晶硅电池相比，锗衬底电池具有更高的光电转化效率和更低的发电成本，且具有更好的耐高温性能和更好的空间抗辐射能力，寿命约为硅太阳能电池的两倍，因此锗衬底在空间卫星太阳能电池的制备方面有良好的应用。

目前的单片生产用清洗设备主要是通过在高速旋转的晶片表面上喷射清洗液来达到清洗的目的，在清洗过程中，夹持部件夹持着晶片以进行高速旋转，使得清洗液可以对单片表面的颗粒物进行冲刷，但清洗过程中由于喷头固定，不便于对晶片表面进行全方面的清洗，容易出现清洗死角，与此同时，不便于对清洗液中的杂质进行过滤，对清洗液的循环利用功能造成影响，导致清洗液使用成本增加。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，该具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备包括清洗柜，所述清洗柜内设置有清洗室和集液室，所述清洗室内安装有基座，所述基座上开设有置物槽，所述清洗室的顶部安装有模组滑轨，所述模组滑轨上滑动安装有移动座，所述移动座上安装有喷头，所述清洗柜上安装有循环泵，所述循环泵的输出端与喷头通过输液管相连接，且循环泵的输入端与集液室通过吸液管相连接，所述清洗室和集液室通过回收孔相接通，所述集液室内设置有滤网，当工作人员通过机械手将单晶片放置在置物槽中，对单晶片上表面进行清洗时，启动循环泵，通过吸液管和输液管将集液室中的清洗液输送到喷头中，通过喷头喷洒清洗液对单晶片进行清洗，由于移动座可以带动喷头沿着模组滑轨移动，便于喷头对单晶片进行全方面的清洗，通过回收孔可以将清洗室中的清洗液回流到集液室中，并且，通过集液室中的滤网可以对回流的清洗液进行过滤，有利于对清洗液中所携带的颗粒杂质进行拦截，能够实现清洗液的循环利用。

作为优选技术方案，所述清洗柜上设置有清洗防污染组件和清洗防污染利用组件，所述清洗防污染组件为清洗防污染利用组件提供运行驱动力。

作为优选技术方案，所述清洗防污染组件包括工作腔、双轴驱动电机、穿孔、转盘和电动吸盘；

所述基座内设有工作腔，所述工作腔内安装有双轴驱动电机，所述工作腔与置物槽通过穿孔相接通，所述置物槽内设置有转盘，所述双轴驱动电机的上输出轴贯穿穿孔与转盘相连接，所述转盘上安装有电动吸盘，当单晶片放置在转盘上时，通过启动电动吸盘实现对单晶片的吸附固定，再启动双轴驱动电机，使双轴驱动电机的上输出轴带动转盘进行高速旋转，让转盘可以带动单晶片进行同步转动，能够利用旋转离心力将单晶片上表面上的清洗液抛离，提高清洗液对单晶片表面的清洗效果。

作为优选技术方案，所述清洗防污染组件包括移动块、丝孔、连接弹簧、连接轴承、连接环、传动板、顶升杆、第一滑孔、传动环和封堵垫；