[发明专利]处理腔室、基片处理方法及处理装置

摘要

本申请公开了一种处理腔室、基片处理方法及处理装置。处理腔室包括腔体组件以及腔门组件；腔体组件包括腔体；腔门组件包括喷淋板以及腔门，喷淋板设置在腔门上，腔门组件关闭时喷淋板盖设在腔体的一端，腔体与喷淋板围设成处理空间，喷淋板可向处理空间通入处理气体。本申请所提供的处理腔室，喷淋板盖设在腔体上，简化了处理腔室及其内部结构，在处理腔室占用相同使用空间的情况下增加了腔体的内部空间，使得腔体可容纳更大、更多的基片，提高了处理的产能，降低了处理的生产成本；采用喷淋板向处理空间通入处理气体，使得处理空间内的气流更加均匀稳定，可提高基片处理的均匀性。