|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 200个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]桨杆装置及镀膜设备-CN202110472580.4有效
-
田玉峰;郑中伟;毛文瑞
-
江苏微导纳米科技股份有限公司
-
2021-04-29
-
2023-10-27
-
C23C16/458
- 本发明涉及一种桨杆装置及镀膜设备，包括安装底座、桨杆组件、支撑件及调节组件，桨杆组件包括作为其纵长两端的调节端和承载端，调节端装配于安装底座上，承载端用于承载待承载件，支撑件与桨杆组件转动连接，且位于调节端和承载端之间，使得桨杆组件能够绕支撑件转动，调节件与调节端传动连接，且调节件被构造为用于带动调节端在第一方向运动以使得桨杆组件绕支撑件转动，第一方向与桨杆组件的纵长方向相交。如此，无论承载端是否承载了待承载件，都可以通过调节件的调节作用使得桨杆组件绕支撑件转动，进而使得承载端能够持续保持水平，避免了桨杆组件的频繁上扬和下垂现象的产生，从而对桨杆组件起到了一定的保护作用，延长了使用寿命。
- 装置镀膜设备
- [发明专利]一种半导体装置-CN202210551680.0有效
-
周仁;杨德赞;吴飚;荒见淳一
-
江苏微导纳米科技股份有限公司
-
2022-05-18
-
2023-10-20
-
C23C16/455
- 本公开涉及一种半导体装置。在各实施例中，一种半导体装置包括：第一基座，其具有正表面和背表面，且包含第一主进气通道、第二主进气通道、第一分流通道及第一通孔；第二基座，其连接至第一基座的背表面，且包含第一主进气通道、第二主进气通道、第二分流通道及第二通孔；以及基座盖板，其连接至第一基座的正表面，且包含第一主进气通道、第二主进气通道、第三分流通道及第三通孔，基座盖板经由第一主进气通道接收第一气体且经由第二主进气通道接收第二气体，其中第一气体和第二气体经由第一通孔和第三通孔输送至第一基座的正表面，且第一气体和第二气体经由第一通孔和第二通孔输送至第一基座的背表面。
- 一种半导体装置
- [发明专利]组合舟、单舟、处理设备、载片方法及处理方法-CN202310760019.5有效
-
范方宇;严大
-
江苏微导纳米科技股份有限公司
-
2023-06-27
-
2023-10-17
-
C23C16/458
- 本发明涉及一种组合舟、单舟、处理设备、载片方法及处理方法，组合舟包括：外舟体，设有具有开口的容纳空间；独立于外舟体设置的单舟，用于放置基片；单舟能够经开口移入容纳空间内或者经开口从容纳空间移出。当需要进行水平载片时，将硅片放入单舟，将单舟移入外舟体内；而当需要进行竖直载片时，对外舟体的结构做适应性调整，将硅片放入单舟并旋转90°后放入调整后的外舟体中即可。相对于现有技术中一体设置的载片舟，该组合舟采用分体设置的外舟体与单舟的方式，在水平载片与竖直载片之间切换时，在不改变处理设备其他结构的情况下，不需要改变单舟的结构，只需要调整外舟体的结构即可，便于实现水平载片与竖直载片之间的切换。
- 组合处理设备方法
- [发明专利]炉管镀膜设备-CN202210962951.1有效
-
朱双双;康旭
-
江苏微导纳米科技股份有限公司
-
2022-08-11
-
2023-10-13
-
C23C16/455
- 本发明提供了一种炉管镀膜设备。本发明的炉管镀膜设备包括炉体、供气装置和反射单元；所述炉体中空密封设置，所述炉体用于承载待镀膜对象，所述炉体并用于对所述镀膜对象进行加热，所述供气装置与所述炉体的中空处连通，所述供气装置用于所述镀膜对象提供镀膜所需原料；所述反射单元设置于所述炉体内，所述反射单元用于反射热量。本发明的炉管镀膜设备通过所述炉体对待镀膜的对象进行承载和加热，通过所述供气装置对所述炉体进行供气，提供镀膜用原料，并通过在所述炉体内设置所述反射单元，对所述炉体内的热量进行反射，能够提升所述炉体内的温度均匀性，进而解决温度炉体两端镀膜均匀性差的问题，能够在保证产能的同时保证镀膜均匀性。
- 炉管镀膜设备
|
