[发明专利]处理腔室、基片处理方法及处理装置有效
申请号: | 202310437556.6 | 申请日: | 2023-04-23 |
公开(公告)号: | CN116162922B | 公开(公告)日: | 2023-09-22 |
发明(设计)人: | 施述鹏;严大;黎微明;康旭;沈安磊 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 陈婷 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 方法 装置 | ||
1.一种处理腔室,其特征在于,包括:
腔体组件以及腔门组件;
所述腔体组件包括腔体;
所述腔门组件包括喷淋板以及腔门,所述喷淋板设置在所述腔门上,所述腔门组件关闭时,所述喷淋板盖设在所述腔体的一端,所述腔体与所述喷淋板围设成处理空间,所述喷淋板向所述处理空间通入处理气体;
所述腔体上设置有气源接口,所述腔体与所述喷淋板抵接处开设有多个进气通道,所述进气通道的出气口与所述喷淋板的进气口对应,当所述喷淋板与所述腔体抵接时,外部气源可经所述气源接口、所述进气通道以及所述喷淋板进入所述处理空间;
所述喷淋板、所述腔门以及所述腔体围设形成腔门空间,用于充入阻隔气体;
所述腔体内壁上设有多个气帘孔,所述气帘孔可向所述处理空间通入阻隔气体,所述阻隔气体在所述腔体与所述喷淋板贴合处形成隔离气帘。
2.根据权利要求1所述的处理腔室,其特征在于,所述腔体为单层。
3.根据权利要求1所述的处理腔室,其特征在于,所述腔体具有两个互相平行的腔壁。
4.根据权利要求3所述的处理腔室,其特征在于,所述腔体在垂直方向上的截面呈矩形。
5.根据权利要求1所述的处理腔室,其特征在于,所述腔门组件包括支撑柱,多个所述支撑柱连接在所述腔门的内侧壁上,所述喷淋板滑动设置在所述支撑柱上;
腔门组件关闭时,所述喷淋板贴合在所述腔体上,所述腔门空间内的气体压强大于所述处理空间内的气体压强,以阻止所述处理气体外溢。
6.根据权利要求5所述的处理腔室,其特征在于,所述腔门组件包括隔热层,所述隔热层抵接在所述腔门的内侧壁。
7.根据权利要求5所述的处理腔室,其特征在于,所述支撑柱上套设有支撑弹簧,腔门组件关闭时,所述支撑弹簧将所述喷淋板压紧贴合在所述腔体上。
8.根据权利要求5所述的处理腔室,其特征在于,所述气帘孔设置在靠近所述喷淋板贴合处,多个所述气帘孔间隔分布在所述腔体内周上。
9.根据权利要求5所述的处理腔室,其特征在于,所述腔体设有外套筒,所述外套筒的横截面积大于所述腔体的横截面积,所述外套筒连接在所述腔体的外侧壁上,所述腔体与所述喷淋板贴合的一端齐平于所述外套筒与所述腔体的连接处,或所述腔体与所述喷淋板贴合的一端部分伸入所述外套筒内;
腔门组件关闭时,所述喷淋板、所述腔门分别与所述腔体、所述外套筒抵接形成所述腔门空间。
10.根据权利要求5所述的处理腔室,其特征在于,所述腔体与所述喷淋板贴合的一端的内侧壁设有环状凸缘;
腔门组件关闭时,所述喷淋板、所述腔门分别与所述环状凸缘、所述腔体抵接形成所述腔门空间。
11.根据权利要求10所述的处理腔室,其特征在于,所述环状凸缘与所述喷淋板抵接处设有多个安装孔,所述安装孔内容置有导气件,所述进气通道开设在所述环状凸缘以及所述导气件上。
12.根据权利要求11所述的处理腔室,其特征在于,所述安装孔内设有伸缩弹簧,所述导气件的一端通过所述伸缩弹簧与所述环状凸缘连接,所述喷淋板与所述环状凸缘抵接时,所述伸缩弹簧将所述导气件的相对一端压紧贴合在所述喷淋板上。
13.根据权利要求1所述的处理腔室,其特征在于,所述腔体组件包括抽气筒,所述抽气筒连接在所述腔体远离所述喷淋板的一端,所述抽气筒的横截面在远离所述喷淋板方向上呈锥形缩进,所述腔体内的气体经所述抽气筒抽出。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的