[发明专利]一种基于化学气相沉积法制备多层石墨烯的方法在审
申请号: | 202310306980.7 | 申请日: | 2023-03-27 |
公开(公告)号: | CN116397211A | 公开(公告)日: | 2023-07-07 |
发明(设计)人: | 王振华;李驰;李佳芮;刘思兰;孙东甲;张伟强;周顷禹;邵雪健;孙伟 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨理工大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/01;C23C16/455;C23C14/18;C23C14/58;C23C14/26;C23C16/56;C01B32/186 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 李智慧 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种多层石墨烯的制备方法,属于材料制备技术领域,具体方案包括以下步骤:步骤一、在衬底上蒸镀铜薄膜;步骤二、对铜薄膜进行退火处理;步骤三、使用铜箔包裹在步骤二中退火处理后的铜薄膜的外周,且铜箔和铜薄膜之间留有间隙;步骤四、采用化学气相沉积的方法在铜薄膜上生长多层石墨烯。本发明采用铜箔包裹退火后的铜薄膜作为生长基底,通过化学气相沉积法生长多层石墨烯。即采用铜箔包裹腔体催化裂解空间中的碳源,使其形成微小石墨烯孪晶结构,在包裹腔体内沉积到铜薄膜表面生长的第一层石墨烯表面,沉积的石墨烯孪晶吸附周围碳源持续生长,从而形成石墨烯薄膜,则铜薄膜表面生长出多层石墨烯薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 化学 沉积 法制 多层 石墨 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的