[发明专利]一种基于化学气相沉积法制备多层石墨烯的方法在审

专利信息
申请号: 202310306980.7 申请日: 2023-03-27
公开(公告)号: CN116397211A 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 王振华;李驰;李佳芮;刘思兰;孙东甲;张伟强;周顷禹;邵雪健;孙伟 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/01;C23C16/455;C23C14/18;C23C14/58;C23C14/26;C23C16/56;C01B32/186
代理公司: 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 代理人: 李智慧
地址: 150000 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种多层石墨烯的制备方法,属于材料制备技术领域,具体方案包括以下步骤:步骤一、在衬底上蒸镀铜薄膜;步骤二、对铜薄膜进行退火处理;步骤三、使用铜箔包裹在步骤二中退火处理后的铜薄膜的外周,且铜箔和铜薄膜之间留有间隙;步骤四、采用化学气相沉积的方法在铜薄膜上生长多层石墨烯。本发明采用铜箔包裹退火后的铜薄膜作为生长基底,通过化学气相沉积法生长多层石墨烯。即采用铜箔包裹腔体催化裂解空间中的碳源,使其形成微小石墨烯孪晶结构,在包裹腔体内沉积到铜薄膜表面生长的第一层石墨烯表面,沉积的石墨烯孪晶吸附周围碳源持续生长,从而形成石墨烯薄膜,则铜薄膜表面生长出多层石墨烯薄膜。
搜索关键词: 一种 基于 化学 沉积 法制 多层 石墨 方法
【主权项】:
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