[发明专利]基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置在审

专利信息
申请号: 202310109948.X 申请日: 2023-02-13
公开(公告)号: CN116656166A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 田中友耶;尾辻正幸;田中孝佳 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: C09D5/20 分类号: C09D5/20;H01L21/67
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 陈彦;胡玉美
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种具有优异的干燥性能且能够良好地去除附着于基板表面的液体的基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置。在本发明中,基板处理液具备升华性物质、溶解所述升华性物质的溶剂、以及助剂,所述助剂通过添加至用所述溶剂溶解所述升华性物质所得的溶液中,从而使超过溶解度的所述升华性物质的粒子分散于所述溶液中。因此,在基板处理液中超过溶解度的升华性物质的粒子均匀地分散并溶解于溶剂中。因此,向基板的图案形成面供给的升华性物质比现有技术多,在图案的内部存在大量的升华性物质(固相)。其结果是,可有效地抑制图案间的溶剂残存,可在利用升华性物质(固相)牢固地保持图案的状况下执行升华干燥。
搜索关键词: 处理 方法 以及 装置
【主权项】:
暂无信息
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