[发明专利]基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置

说明书

本发明提供一种具有优异的干燥性能且能够良好地去除附着于基板表面的液体的基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置。在本发明中，基板处理液具备升华性物质、溶解所述升华性物质的溶剂、以及助剂，所述助剂通过添加至用所述溶剂溶解所述升华性物质所得的溶液中，从而使超过溶解度的所述升华性物质的粒子分散于所述溶液中。因此，在基板处理液中超过溶解度的升华性物质的粒子均匀地分散并溶解于溶剂中。因此，向基板的图案形成面供给的升华性物质比现有技术多，在图案的内部存在大量的升华性物质(固相)。其结果是，可有效地抑制图案间的溶剂残存，可在利用升华性物质(固相)牢固地保持图案的状况下执行升华干燥。

技术领域

本发明涉及在利用升华性物质的升华现象来去除附着于基板的液体时使用的基板处理液、使用该基板处理液从基板去除上述液体的基板处理方法以及基板处理装置。基板包括半导体晶圆、液晶显示装置用基板、有机EL(electroluminescence：电致发光)显示装置等FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。

以下所示的日本申请的说明书、附图和权利要求书中的公开内容通过参考而将其全部内容引入本说明书中：

日本特愿2022-27520(2022年2月25日申请)。

背景技术

在半导体装置、液晶显示装置等电子部件的制造工序中，包括对基板的表面反复实施成膜、蚀刻等处理而形成图案的工序。另外，在该图案形成后，依次进行利用药液的清洗处理、利用冲洗液的冲洗处理及干燥处理等，但随着图案的微细化，干燥处理的重要性变得特别高。即，在干燥处理中抑制或防止图案倒塌发生的技术变得重要。因此，提出了使用使樟脑、环己酮肟等升华性物质溶解于IPA(异丙醇：isopropyl alcohol)等溶剂而成的基板处理液来使基板升华干燥的基板处理技术(日本特开2021-9988号公报等)。

发明内容

发明所要解决的课题

在上述现有技术中，为了去除附着于冲洗处理后的基板表面的DIW(去离子水：deionized water)，执行以下的工序。通过向基板表面供给IPA而将DIW置换为IPA。然后，在将上述基板处理液旋涂在基板表面之后，使基板处理液的溶剂(IPA)蒸发。由此，在基板的表面形成升华性物质的固化膜。最后，使固化膜升华而从基板的表面去除。

这样，以往的基板处理液由于使用了利用溶剂溶解升华性物质而成的溶液，因此溶液中的升华性物质的浓度少，有时升华性物质不会充分地进入图案的间隙。在该情况下，固化膜不形成于图案的间隙，会产生图案未被保持的问题。另外，也有时在基板表面的最上层形成固化膜，溶剂残留在固化膜内。由于这些原因，有时无法抑制图案的倒塌。

本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种具有优异的干燥性能且能够良好地去除附着于基板表面的液体的基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置。

用于解决课题的方法

本发明的第一方式是一种用于去除具有图案形成面的基板上的液体的基板处理液，其特征在于，具备升华性物质、溶解升华性物质溶剂、以及助剂，上述助剂通过添加至用溶剂溶解升华性物质而成的溶液中，从而使超过溶解度的升华性物质的粒子分散于溶液中。

另外，本发明的第二方式是一种基板处理方法，其特征在于，具备：准备上述基板处理液的处理液准备工序；将通过处理液准备工序准备的基板处理液供给至形成有图案的基板表面而在基板表面形成基板处理液的液膜的液膜形成工序；使基板处理液的液膜固化而形成升华性物质的固化膜的固化膜形成工序；以及使固化膜升华而从基板表面去除的升华工序。

并且，本发明的第三方式是一种基板处理装置，其特征在于，具备：贮存上述基板处理液的贮存部、以及将贮存于贮存部的基板处理液供给至形成有图案的基板表面的处理液供给部。