[发明专利]量测图形结构及其使用方法在审
| 申请号： | 202310085990.2 | 申请日： | 2023-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN116360223A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 张驰;赵弘文;郑春杰 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种量测图形结构，包括量测图形，量测图形包括第一量测图形和第二量测图形，量测图形设置在切割道以及die中；其中，第一、二量测图形呈矩阵分布，量测图形中的X方向和Y方向均至少存在一个第一量测图形和第二量测图形；第一量测图形由多个条形图形组成，第一量测图形用于形成前层套刻标记；第二量测图形为矩形形状，第二量测图形用于形成当层套刻标记。本发明使用一个特殊设计的量测图形，可同时用于套刻精度和关键尺寸的量测，且该量测图形具有较小的尺寸，可以用于曝光区域内部高阶套刻精度和关键尺寸均一性补偿，从而在保证产品套刻精度和关键尺寸均一性表现的前提下可以节约芯片内有效面积。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 结构 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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