[实用新型]一种沉积设备

摘要

本实用新型涉及半导体加工设备领域，公开了一种沉积设备，包括反应腔室、安装在反应腔室内的加热机构和升降台，反应腔室内还安装有用于翻转晶圆的翻转机构，翻转机构包括翻转框、驱动件和夹持件，翻转框转动安装在反应腔室内，驱动件固定在反应腔室外并用于驱动翻转框转动，夹持件固定在翻转框上并用于夹持放置在升降台上的晶圆。本实用新型使得同一个机台能够连续沉积晶圆的正反两面，减少了反复传送晶圆而给晶圆带来的损坏风险，同时也能够提高晶圆表面薄膜的沉积质量。