[实用新型]一种固体源内置的反应腔体装置有效
| 申请号: | 202222333747.1 | 申请日: | 2022-09-02 |
| 公开(公告)号: | CN218666280U | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
| 发明(设计)人: | 吕俊彦;黄亚洲;周雨轲;张云飞;訾豪;杨东方 | 申请(专利权)人: | 南京工程学院 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455 |
| 代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 苏一帜 |
| 地址: | 211167 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型实施例公开了一种固体源内置的反应腔体装置,涉及原子层沉积技术领域,能够降低设备成本的同时,还避免反应物外泄。本实用新型包括:进气端密封法兰(1),固体源加热装置(2),反应腔体(3),反应腔加热装置(4),出气端密封法兰(5),单向阀(8),固体源瓶(9),气动阀(10)。进气端密封法兰(1)和出气端密封法兰(5),用来对反应腔体(3)进行密封,保证必要的真空度和避免反应物外泄;固体源加热装置(2),用来对固体源瓶(9)进行加热,使其达到反应所需的饱和蒸汽压;反应腔加热装置(4),用来对待沉积样品(7)进行加热,使其达到原子层沉积反应所需的温度;单向阀(8)、固体源瓶(9)、气动阀(10),组成反应腔体内置式固体源装置结构。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 固体 内置 反应 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





