[实用新型]真空镀膜室有效
| 申请号： | 202221494947.9 | 申请日： | 2022-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN217677749U | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 王君 | 申请（专利权）人： | 辽宁卓越真空设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 汪喆 |
| 地址： | 110000 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种真空镀膜室，属于镀膜设备技术领域。真空镀膜室包括镀膜室主体、第一门体和第二门体；镀膜室主体呈框型结构，且镀膜室主体的两侧均形成有敞口部，第一门体和第二门体相对设置在镀膜室主体的两侧，且与镀膜室主体转动连接，以封闭或开启敞口部。通过在镀膜室主体的两侧分别设置的第一门体和第二门体，并使第一门体和第二门体与镀膜室主体转动连接，在实际作业时能够根据需求开启第一门体或第二门体或将第一门体和第二门体全部开启，从而能够在一定程度上避免当摆放空间受限导致一侧门体无法正常开启时，转架无法正常取放以及维修困难等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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- 2023-03-09 - 2023-09-15 - C23C14/22
- 本实用新型涉及真空内磁场约束技术领域，尤其涉及一种真空内磁场约束装置及真空镀膜系统，旨在缓解现有磁场约束装置安全性能低的技术问题。该真空内磁场约束装置包括固定外壳、电磁线圈、永磁铁、电极馈入和水接头；固定外壳具有容纳腔；电磁线圈设置在永磁铁的至少一个侧面，并同永磁铁一起设置于容纳腔内；电极馈入固定于固定外壳的外壁，并与电磁线圈电连接；水接头设有至少两个，固定于固定外壳的外壁，并与容纳腔连通。该真空镀膜系统包括真空内磁场约束装置。通过该真空内磁场约束装置，可以产生约束磁场实现对等离子体的约束，同时循环的冷却水可带走电磁线圈产生的热量，提高了安全性能。
- 微粒涂布设备及方法-202310216058.9
- 迈克·维鲁夫 - 迈克·维鲁夫
- 2023-03-08 - 2023-09-12 - C23C14/22
- 本发明涉及一种涂布微粒的涂布设备、涂布微粒的方法以及相应的用途。所述涂布设备包括涂布室和布置于涂布室中的涂布装置。该涂布装置包括含轴线的中空体、微粒源和微粒槽以及至少一个涂布源，中空体内壁围绕中空体轴线形成微粒轨迹。涂布源适于沿垂直于中空体轴线的方向发射涂布材料。涂布装置还包括旋转装置和清洁装置，旋转装置适于使中空体绕其轴线旋转，清洁装置以相对于中空体静止的方式布置于中空体内部并适于从中空体内壁清除附着的涂布材料。
- 一种粉体真空镀膜装置-202320445664.3
- 杨武保;杨尚武;窦国爱;邓智林 - 四川万邦胜辉新能源科技有限公司
- 2023-03-10 - 2023-09-12 - C23C14/22
- 本实用新型涉及粉体改性设备技术领域，尤其涉及一种粉体真空镀膜装置。本实用新型的粉体真空镀膜装置，包括：真空室；镀膜源，设置于真空室内；粉体盘，用于装载待镀膜的粉体，设置于真空室内，粉体盘与真空室之间设置有翻料机构。本实用新型的镀膜源产生改性粒子，改性粒子与粉体盘的粉体粒子相互作用，并且覆盖在粉体粒子的表面，可以实现对粉体粒子的表面改性，翻料机构可调整粉体盘两端的相对高度，从而使得粉体盘中的粉体粒子在自重作用下翻滚运动，从而增加与改性粒子之间剪切作用，促进改进粒子和粉体粒子之间的结合，结合更均匀。
- 一种用于真空镀膜机的加热装置-202310007625.X
- 马尚忠;鲁继浩;杨忠新;郁永兵;刘英俊;肖荣军;徐明照;李坤 - 上海欧展电器有限公司
- 2023-01-04 - 2023-09-08 - C23C14/22
- 本申请涉及一种用于真空镀膜机的加热装置，包括导热板体，所述导热板体包括铝壳、位于铝壳内的导热铝板、水平加强钢构、铜板和加热丝，所述导热铝板的表面与铜板相贴合，所述导热铝板贯穿开设有蛇形安装槽，加热丝布设于安装槽内，加热丝的外周面与安装槽的槽壁相抵接，所述加热丝外周面、安装槽的槽壁和所述铜板的表面所合围形成的腔室内填充有铜砂。本申请通过设置水平加强钢构，以提高导热铝板的抗弯曲形变能力，并且利用铜砂和铜板，以提高加热丝与导热铝板的接触面积和导热效果，从而提高加热效果。
- 一种半导体薄膜沉积设备-202320860217.4
- 黄明策;吴凤丽 - 拓荆科技(上海)有限公司
- 2023-04-17 - 2023-09-08 - C23C14/22
- 本实用新型涉及半导体制造设备技术领域，更具体的说，涉及一种半导体薄膜沉积设备。本实用新型提供的半导体薄膜沉积设备，包括腔体、盖板、连接部件、升降机构、驱动机构和外部抬举机构：所述盖板，设置于腔体上方；所述连接部件，一端连接盖板，另一端连接升降机构；所述升降机构，设置于腔体内部，在驱动机构的驱动力作用下执行升降动作，带动盖板上升或下降；所述驱动机构，与升降机构连接，对升降机构施加驱动力；所述外部抬举机构，设置在腔体外部，与连接部件连接，对连接部件施加抬举力，与升降机构协同作用带动盖板上升。本实用新型可以减小升降机构的摩擦力，提高升降机构的使用寿命，不易损坏。
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