[实用新型]一种基座及衬底处理设备

摘要

本实用新型公开了一种基座及衬底处理设备，所述基座包括：本体，本体包括：内部区域，置于本体的中部。倾斜支撑区，倾斜支撑区环绕内部区域且其内边缘与内部区域的边缘连接。边缘区，边缘区环绕倾斜支撑区，且其内边缘与倾斜支撑区的外边缘连接。边缘区的顶表面高于内部区域的顶表面。倾斜支撑区包含倾斜支撑表面，倾斜支撑表面上间隔设置有若干个凸起结构，凸起结构沿倾斜支撑表面的径向延伸；凸起结构的顶表面用于支撑待处理衬底。相邻的两个凸起结构之间具有间隙，待处理衬底的底表面和内部区域的顶表面之间的气体从间隙中排出。本实用新型能够减少因为排气引起衬底滑移，提高衬底工艺质量。