[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202211682348.4 | 申请日： | 2022-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN116426871A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 菅原由季 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/26;H10K71/16 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法，通过更难以产生制造不良的成膜方法进行成膜。成膜单元包括放出成膜材料的成膜源，一边移动一边对基板进行成膜。挡板遮挡从成膜源放出的成膜材料向基板的飞散。移动部件使挡板进行开闭。移动部件与成膜单元向第一方向的移动联动地使挡板从全闭位置向全开位置向第一方向移动，在成膜单元对基板的成膜中，经过由挡板覆盖基板的一部分的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 以及 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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