[发明专利]一种微纳尺度三维图形化模板及功能薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 202211559556.5 | 申请日： | 2022-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN116219380A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 刘培;田利丰;孟祥敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/48;C23C14/54;C23C14/04;C30B25/18;C30B29/16 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 盛大文 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及薄膜材料制备领域，尤其涉及一种微纳尺度三维图形化模板及功能薄膜的制备方法。所述制备方法包括以下步骤：利用磁控溅射法在衬底上制备非晶薄膜；将所述非晶薄膜放入离子注入系统，按照预设的离子注入样式进行离子注入图形化加工。本发明方法能够制备出起伏平滑的三维图形化模板，简单、经济、高效，并利用该衬底更好地制备具有三维图形化结构的薄膜材料，不仅极大拓展了基础研究空间，而且对薄膜材料表面图形化的实际应用有巨大的推进作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺度 三维 图形 模板 功能 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院理化技术研究所，未经中国科学院理化技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211559556.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：DRC验证图形的建模方法
- 下一篇：一种物料输送系统及方法
- 同类专利
- 专利分类
