[发明专利]光刻图形形成方法、装置、电子设备和可读存储介质

摘要

本公开提供了一种光刻图形形成方法、装置、电子设备和可读存储介质，涉及集成电路技术领域。其中，光刻图形形成方法包括：基于待光刻层需绘制的目标图形的图形特征，配置出对应的多组光刻修整操作；执行所述多组光刻修整操作，得到对应的多组光刻图形，以由所述多组光刻图形构成所述目标图形，其中，所述多组光刻图形中的至少两组光刻于所述待光刻层的表面上。通过本公开的技术方案，能够将复杂的目标图形拆分为多个较简单的子图形，而简单的子图形有利于降低对工艺窗口的极限要求，进而保证光刻成型的轮廓、线宽粗糙度以及边缘粗糙度等参数的质量，以降低光刻过程产生缺陷的概率。