[发明专利]电极馈入装置和化学沉积设备在审
| 申请号： | 202211401702.1 | 申请日： | 2022-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN115710697A | 公开（公告）日： | 2023-02-24 |
| 发明（设计）人： | 王亨;廖宝臣;张良俊;李挺 | 申请（专利权）人： | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 陈婷 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了电极馈入装置和化学沉积设备，电极馈入装置包括电极导杆、电极块和载片舟。电极块设置于电极导杆上。载片舟具有舟脚，舟脚与电极块抵接，以将二者电性连接。其中，电极块和舟脚的至少其中一者设置有阻挡部，用于阻挡工艺气体进入舟脚与电极块之间的缝隙。通过上述方式，本申请能够增强电场的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 装置 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
