[发明专利]再分布衬底以及包括再分布衬底的半导体封装在审

专利信息
申请号: 202211394880.6 申请日: 2022-11-08
公开(公告)号: CN116110876A 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 黄贤瀞;金东奎;石敬林;李元宰 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L23/528;H01L23/538;H01L23/552;H01L23/14;H01L23/31
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 范心田;倪斌
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了再分布衬底,可以包括:第一互连层,具有第一绝缘图案、第一虚设图案和第二虚设图案,第一虚设图案和第二虚设图案在第一绝缘图案中;以及第二互连层,堆叠在第一互连层上,第二互连层具有第二绝缘图案、信号图案和电源/接地图案,信号图案和电源/接地图案在第二绝缘图案中。第一虚设图案可以位于信号图案下方,并且第二虚设图案可以位于电源/接地图案下方。第一虚设图案可以包括点状图案,并且第二虚设图案可以包括板状图案。
搜索关键词: 再分 衬底 以及 包括 半导体 封装
【主权项】:
暂无信息
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