[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头、抛光系统和抛光方法有效
| 申请号： | 202211325513.0 | 申请日： | 2022-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN115464552B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 孟松林;温世乾;赵德文;路新春 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32;B24B37/005;B24B49/16;B24B37/10;H01L21/306;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头，其包括承载盘、弹性膜和保持环，所述弹性膜设置于承载盘的下方，所述保持环设置于所述弹性膜的外周侧并位于承载盘的底部；所述弹性膜包括底板部、直立部和水平部，所述底板部为盘状结构，直立部沿所述底板部的外缘竖直向上延伸，所述水平部自所述直立部的顶端水平向内延伸；还包括应变检测件和位置调节件，应变检测件沿周向设置于承载盘的底部，并且，所述弹性膜加压后，所述水平部抵接于应变检测件，以测量水平部的应力信息；位置调节件与应变检测件水平相邻设置于承载盘，位置调节件能够抵接于水平部，其基于应变检测件的测量值调节水平部的应力，使得水平部构成的腔室沿圆周方向的变形均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 承载 抛光 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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