[发明专利]用于集成电路设备的浸没冷却在审
申请号: | 202211136366.2 | 申请日: | 2022-09-19 |
公开(公告)号: | CN116031220A | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | A·阿德比义;J-Y·张;D·库尔卡尼 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L23/373 | 分类号: | H01L23/373;H01L23/367;H01L23/44 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 林金朝 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于集成电路组件的两相浸没冷却系统可以利用热耦接到至少一个集成电路设备的散热设备形成,其中,散热设备可以包括表面积增强结构和在表面积增强结构上的沸腾增强材料层,例如微孔材料。 | ||
搜索关键词: | 用于 集成电路 设备 浸没 冷却 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211136366.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。