[发明专利]用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备在审
申请号: | 202211101618.8 | 申请日: | 2022-09-09 |
公开(公告)号: | CN116288250A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 左国军;候岳明;宋广华;朱海剑 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52 |
代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 刘燕 |
地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及离子体增强化学气相沉积设备领域,具体涉及用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备,阴极组件具有电极板,电极板绕中心圆周连接有多个铜棒,多个铜棒之间连接有多点馈入铜片,多点馈入铜片连接有铜片,铜片连接有电源适配器。本发明提供的真空镀膜设备使用上述阴极组件,通过在电极板上面使用多点馈入方式,改变电磁波馈入点,电磁波路径改变,避开电磁波相长干涉,消除驻波效应。 | ||
搜索关键词: | 用于 真空镀膜 设备 阴极 组件 及其 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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