[发明专利]用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备在审
| 申请号: | 202211101618.8 | 申请日: | 2022-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN116288250A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
| 发明(设计)人: | 左国军;候岳明;宋广华;朱海剑 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 刘燕 |
| 地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 真空镀膜 设备 阴极 组件 及其 | ||
1.一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:包括第一金属导电件(3),与至少一个电源配电器(5)连接,所述第一金属导电件(3)为呈散射状的金属片,包括均匀分布的多个分片(34),任一所述分片(34)上至少设有一个连接点,用于与第二金属导电件(2)连接,所述第二金属导电件(2)远离所述分片(34)的一端均连接电极板(1),以实现多点功率馈入所述电极板(1)。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:还包括第三金属导电片(4)和弹性导电件(11),所述第一金属导电件(3)通过所述第三金属导电件(4)与所述电源配电器(5)连接,所述第二金属导电件(2)通过所述弹性导电件(11)连接于所述电极板(1)。
3.根据权利要求2所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:所述第一金属导电件(3)和所述第三金属导电件(4)为铜片,所述第二金属导电件(2)为铜杆件,所述铜片和所述铜杆件表面涂有防氧化层。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:所述第二金属导电件(2)环绕所述第一金属导电件(3)的中心均匀布设,任一所述分片(34)上还设有U型结构(33)。
5.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:所述电源配电器(5)设有两个,使用的电源频率为高频电源范围3~30MHz,甚高频范围30~300MHz。
6.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1-5任一所述权利要求中的真空镀膜设备的阴极组件。
7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜设备,其特征在于,包括一腔体(100),所述腔体(100)上方设有上盖(7),所述上盖(7)上方设有第一护罩(8),所述第一护罩(8)上方设有第二护罩(9),所述电极板(1)设于所述腔体(100)内,所述第一金属导电件(3)位于所述第一护罩(8)内,所述上盖(7)上设有贯穿孔(71),所述第二金属导电件(2)穿过所述贯穿孔(71)连接于所述电极板(1),所述电源配电器(5)设于所述第二护罩(9)内。
8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备,其特征在于:所述第二金属导电件(2)套设有绝缘热缩管(12),所述第一金属导电件(3)通过绝缘支撑架(10)架设在所述上盖(7)上方,所述腔体内侧靠近所述电极板(1)部分设有绝缘板(6)。
9.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备,其特征在于,所述电极板(1)与所述第一金属导电件(3)平行设置,沿第一方向,所述电极板(1)投影尺寸范围为正方形,边长为1m~4m。
10.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备,所述第一护罩(8)的一侧连接有进气风扇(81),另一侧连接有排风风扇(82)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





