[发明专利]用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备在审

专利信息
申请号: 202211101618.8 申请日: 2022-09-09
公开(公告)号: CN116288250A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 左国军;候岳明;宋广华;朱海剑 申请(专利权)人: 常州捷佳创精密机械有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/52
代理公司: 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 代理人: 刘燕
地址: 213000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 真空镀膜 设备 阴极 组件 及其
【权利要求书】:

1.一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:包括第一金属导电件(3),与至少一个电源配电器(5)连接,所述第一金属导电件(3)为呈散射状的金属片,包括均匀分布的多个分片(34),任一所述分片(34)上至少设有一个连接点,用于与第二金属导电件(2)连接,所述第二金属导电件(2)远离所述分片(34)的一端均连接电极板(1),以实现多点功率馈入所述电极板(1)。

2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:还包括第三金属导电片(4)和弹性导电件(11),所述第一金属导电件(3)通过所述第三金属导电件(4)与所述电源配电器(5)连接,所述第二金属导电件(2)通过所述弹性导电件(11)连接于所述电极板(1)。

3.根据权利要求2所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:所述第一金属导电件(3)和所述第三金属导电件(4)为铜片,所述第二金属导电件(2)为铜杆件,所述铜片和所述铜杆件表面涂有防氧化层。

4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:所述第二金属导电件(2)环绕所述第一金属导电件(3)的中心均匀布设,任一所述分片(34)上还设有U型结构(33)。

5.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件,其特征在于:所述电源配电器(5)设有两个,使用的电源频率为高频电源范围3~30MHz,甚高频范围30~300MHz。

6.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1-5任一所述权利要求中的真空镀膜设备的阴极组件。

7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜设备,其特征在于,包括一腔体(100),所述腔体(100)上方设有上盖(7),所述上盖(7)上方设有第一护罩(8),所述第一护罩(8)上方设有第二护罩(9),所述电极板(1)设于所述腔体(100)内,所述第一金属导电件(3)位于所述第一护罩(8)内,所述上盖(7)上设有贯穿孔(71),所述第二金属导电件(2)穿过所述贯穿孔(71)连接于所述电极板(1),所述电源配电器(5)设于所述第二护罩(9)内。

8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备,其特征在于:所述第二金属导电件(2)套设有绝缘热缩管(12),所述第一金属导电件(3)通过绝缘支撑架(10)架设在所述上盖(7)上方,所述腔体内侧靠近所述电极板(1)部分设有绝缘板(6)。

9.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备,其特征在于,所述电极板(1)与所述第一金属导电件(3)平行设置,沿第一方向,所述电极板(1)投影尺寸范围为正方形,边长为1m~4m。

10.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备,所述第一护罩(8)的一侧连接有进气风扇(81),另一侧连接有排风风扇(82)。

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