[发明专利]一种修正光掩模图形位置偏差的设备及方法

摘要

本申请提供了一种修正光掩模图形位置偏差的设备及方法，属于光掩模技术领域，具体包括上盖板和下盖板，上盖板和下盖板之间通过上盖板支柱连接，上盖板下侧设有光掩模，光掩模通过光掩模支柱固定于下盖板上，光掩模下侧设有保护膜边框，保护膜边框内设有保护膜，保护膜边框通过保护膜支柱固定于下盖板上，上盖板支柱、光掩模支柱和保护膜支柱均设置为可伸缩结构；保护膜边框的外周设有控制棒，控制棒远离保护膜边框的一端连接有微距控制组件，微距控制组件用于控制控制棒带动保护膜边框进行移动；设备还包括控制系统，与设备内的各个部件连接进行控制。本申请提高了光掩模图形位置准确性和芯片良率。