[发明专利]一种基于二碲化钼/二硫化钼异质结的SiC基光电探测器及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202211040600.1 申请日: 2022-08-29
公开(公告)号: CN115621351A 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 曹茗杰;高伟;张峰;李京波 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L31/101 分类号: H01L31/101;H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 广东广信君达律师事务所 44329 代理人: 余胜茂
地址: 510630 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于紫外‑可见‑红外光探测技术领域,公开了一种基于二碲化钼/二硫化钼异质结的SiC基光电探测器及其制备方法和应用。该光电探测器的结构为n+SiC/nSiC/MoS2/MoTe2异质结/对称电极;是先将MoS2纳米片和MoTe2纳米片部分重叠,构建垂直MoS2/MoTe2异质结,再将其转移至清洗后的n+SiC/nSiC衬底上,分别在异质结区域外的MoTe2纳米片与MoS2纳米片上蒸镀对称电极,保护气氛下在150~250℃退火制得。本发明的SiC基光电探测器具有明显的整流行为,极低的暗电流,并在250~1550nm宽谱波段具有优异的光响应性能,拓宽了SiC基光电探测器的应用范围。
搜索关键词: 一种 基于 二碲化钼 二硫化钼 异质结 sic 光电 探测器 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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