[发明专利]绝缘基板化学镀前处理方法及化学镀方法有效

专利信息
申请号: 202210909895.5 申请日: 2022-07-29
公开(公告)号: CN115110071B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 李玖娟;梁志杰;周国云;洪延;高奇;何为;王守绪;陈苑明;王翀 申请(专利权)人: 电子科技大学;江西电子电路研究中心
主分类号: C23C18/18 分类号: C23C18/18;C23C18/20;C23C18/40;C09D165/00;C09D179/02;C09D179/04
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种绝缘基板化学镀前处理方法及化学镀方法,其通过化学氧化聚合方法在绝缘基板表面形成一层含有金属单质的聚合物薄膜,使其能在化学镀液中诱导发生化学沉积,从而对绝缘基板金属化。本发明与传统的钯‑锡胶体的化学镀前处理工艺不同,缩短了生产工艺流程,节约了大量贵金属,降低了化学镀工艺成本。
搜索关键词: 绝缘 化学 处理 方法
【主权项】:
暂无信息
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