[发明专利]绝缘基板化学镀前处理方法及化学镀方法有效
申请号: | 202210909895.5 | 申请日: | 2022-07-29 |
公开(公告)号: | CN115110071B | 公开(公告)日: | 2023-09-01 |
发明(设计)人: | 李玖娟;梁志杰;周国云;洪延;高奇;何为;王守绪;陈苑明;王翀 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学;江西电子电路研究中心 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;C23C18/20;C23C18/40;C09D165/00;C09D179/02;C09D179/04 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 敖欢 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种绝缘基板化学镀前处理方法及化学镀方法,其通过化学氧化聚合方法在绝缘基板表面形成一层含有金属单质的聚合物薄膜,使其能在化学镀液中诱导发生化学沉积,从而对绝缘基板金属化。本发明与传统的钯‑锡胶体的化学镀前处理工艺不同,缩短了生产工艺流程,节约了大量贵金属,降低了化学镀工艺成本。 | ||
搜索关键词: | 绝缘 化学 处理 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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