[发明专利]一种高纯度金属溅射靶材冷却方法在审
| 申请号： | 202210792479.1 | 申请日： | 2022-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN115125497A | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 唐智勇;唐安泰 | 申请（专利权）人： | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 412000 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种高纯度金属溅射靶材冷却方法，包括：在所述冷却箱中设置第一冷却机构、第二冷却机构和第三冷却机构，所述第一冷却机构对高纯度金属溅射靶材进行清洗杂质和初步冷却，所述第二冷却机构对清洗之后的高纯度金属溅射靶材进行水冷，所述第三冷却机构对高纯度金属溅射靶材进行风冷。本发明所述的一种高纯度金属溅射靶材冷却方法，通过设置的第一冷却机构、第二冷却机构和第三冷却机构，第一冷却室对高纯度金属溅射靶材进行清洗杂质和初步冷却，第二冷却室通过设置的冰水能够使得高纯度金属溅射靶材快速降温，第三冷却室中的冷风机能够对进行再次冷却和风杆，从而提高本方法的冷却效率，方便了人们的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纯度 金属 溅射 冷却 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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