[发明专利]一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置有效
| 申请号： | 201510385688.4 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104944793B | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 周永文;范亚军;梁健威 | 申请（专利权）人： | 中山市格兰特实业有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/09 | 分类号： | C03C17/09 |
| 代理公司： | 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙)44327 | 代理人： | 杨连华,陈玉琼 |
| 地址： | 528400 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括底架，底架上架设有用于移转玻璃的输送装置，其技术方案的要点是底架上还设有用于在真空状态下对玻璃表面进行连续镀膜的磁控溅射镀膜机构，磁控溅射镀膜机构包括架设在输送装置上的溅射底架，溅射底架上设有溅射靶材，溅射底架上位于溅射靶材和输送装置之间设有溅射范围控制装置，溅射范围控制装置包括能通过调节溅射缝隙宽度控制溅射靶材溅射到玻璃上的镀膜厚度的第一活动挡板。本发明提供一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，利用溅射范围控制装置，来调整溅射靶材下部的溅射缝隙宽度，使得单一生产线能满足多种规格镀膜玻璃生产，提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可调 溅射 范围 磁控溅射 玻璃 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种可调节挡板缝隙宽度的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括底架(1)，所述底架(1)上架设有用于移转玻璃的输送装置(2)，所述底架(1)上还设有用于在真空状态下对玻璃表面进行连续镀膜的磁控溅射镀膜机构(3)，所述磁控溅射镀膜机构(3)包括架设在所述输送装置(2)上的溅射底架(31)，所述溅射底架(31)上设有溅射靶材(32)，其特征在于：所述溅射底架(31)上位于所述溅射靶材(32)和输送装置(2)之间设有溅射范围控制装置(33)，所述溅射范围控制装置(33)包括能通过调节溅射缝隙宽度控制所述溅射靶材(32)溅射到玻璃上的镀膜厚度的第一活动挡板(331)，所述溅射范围控制装置(33)还包括推动所述第一活动挡板(331)移动的螺杆(332)和驱动所述螺杆(332)转动驱动电机(333)，所述第一活动挡板(331)通过第一螺杆滑块(334)与所述螺杆(332)连接，所述溅射范围控制装置(33)还包括移动方向与所述第一活动挡板(331)相反的第二活动挡板(330)，所述第二活动挡板(330)上连接有当所述螺杆(332)转动时能带动所述第二活动挡板(330)沿所述第一活动挡板(331)反方向移动的第二螺杆滑块(335)。
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- 2011-02-07 - 2013-01-09 - C03C17/09
- 具有防雾性能的光学制品，其包含具有一个主面的基质，所述主面涂有包含最外层和最内层的低折射率(LI)和高折射率(HI)且抗反射层叠层，其中抗反射叠层的最外层为包含插入两个侧部分之间的芯部分的夹芯层，所述芯部分由SiO2、SiOx(其中1≤x<2)、SiO2和SiOx的混合物或SiO2和/或SiOx与基于混合物的总重量为10重量%或更少的Al2O3的混合物构成，具有20-150nm，优选30-80nm的物理厚度并通过在真空室中以至少1.10nm/s的沉积速率真空蒸发沉积和/或在沉积期间通过将至少一种选自氧气、惰性气体或其混合物的气体引入所述真空室中而保持所述真空室中高于或等于1×10-4毫巴，优选1.2×10-4-5×10-4毫巴的压力而形成，侧部分由选自与芯部分相同的材料的材料构成，具有1-50nm，优选2-20nm的物理厚度，并通过以小于1.10nm/s的沉积速率真空蒸发沉积和任选通过引入至少一种选自与芯部分相同的组的气体而保持真空室内1×10-5至小于1×10-4毫巴，优选0.2×10-4-0.5×10-4毫巴的压力而形成，且其中最内层由选自与最外层的芯部分相同的组的材料构成，所述最内层具有50-500nm，优选100-300nm的物理厚度且通过以至少1.10nm/s的沉积速率真空蒸发沉积和/或通过将至少一种选自氧气、惰性气体或其混合物的气体引入所述真空室内而保持所述真空室内高于或等于1×10-4毫巴，优选1.2×10-4-5×10-4毫巴的压力而形成。
- 车辆用窗玻璃的制造方法-201080061899.8
- 森武志;细川武志 - 中央硝子株式会社
- 2010-12-22 - 2012-10-03 - C03C17/09
- 本发明的目的在于得到制造能够遮蔽太阳能和具有电磁波透射性的车辆用窗玻璃的方法。该车辆用窗玻璃的制造方法，其特征在于，其为使用真空成膜法形成红外线反射膜的车辆用窗玻璃的制造方法，其包括通过干式蚀刻除去具有电磁波透射窗的红外线反射膜的膜端部的工序，所述电磁波透射窗使用掩模材料形成且透射电磁波，特别是其特征在于，作为所述干式蚀刻手段使用磨石或激光。
- 玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室-201120456223.0
- 朱建明 - 肇庆市科润真空设备有限公司
- 2011-11-17 - 2012-07-11 - C03C17/09
- 本实用新型公开一种玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室，包括容器体、铝靶和传动辊，铝靶和传动辊均设于容器体内部，铝靶设于传动辊上方，容器体内壁和传动辊外表面上分别设有碳层。本玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室结构简单，在现有真空镀膜工艺室的基础上增加碳层，使铝靶溅射时铝层与碳层结合在一起，清理时只要采用硬物轻敲，铝层与碳层同时脱落，整个清理过程快速方便，对工艺室内各零部件的损害也较小，而碳的价格较低，所以对玻璃镀膜工艺的成本影响也不大。
- 一种光学玻璃非光学表面的强韧化处理方法-201110372888.8
- 李庆;吕学良 - 中国建筑材料科学研究总院
- 2011-11-22 - 2012-06-20 - C03C17/09
- 一种光学玻璃非光学表面的强韧化处理方法，包括以下步骤：在光学玻璃传光面上涂覆石蜡，保护光学表面；使用30∶1∶1的水∶氢氟酸(化学纯)∶硝酸(化学纯)混合溶液侵蚀光学玻璃的非光学表面，静待5-10分钟；在真空或惰性气体保护条件下，在被侵蚀后的玻璃表面的网络构架间隙及孔洞中沉积金属或合金颗粒，填充网络构架间隙及孔洞；当沉积完成后，将玻璃光学表面的石蜡除去。采用本发明制作出的玻璃，硬度大、不易侵蚀，提高了光学玻璃整体的强度及抗冲击性能。
- 一种空心玻璃微珠导电材料的制备方法-201110160744.6
- 彭寿;杨扬;王华文;王芸;彭程 - 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司
- 2011-06-15 - 2012-01-18 - C03C17/09
- 本发明公开一种空心玻璃微珠导电材料的制备方法，采用磁控溅射真空镀膜设备，以经过预处理的空心玻璃微珠作为基底，以金属银作溅射靶材，通过向真空室内充入惰性气体并同时在真空室内辉光放电，使金属银完全溅射到空心玻璃微珠表面生成银膜。通过调节磁控溅射真空镀膜设备中样品架的摆动频率和超声波振动功率，让空心玻璃微珠能充分暴露其表面，使所镀的金属银膜均匀性好且附着力强；通过改变磁控溅射真空镀膜设备真空室内的工作气压、溅射功率、温度、惰性气体的流量和溅射时间等工艺，可在不同粒径的空心玻璃微珠表面沉积不同厚度的金属银膜；该工艺操作简单，成本低廉，无废水废气污染，所制备的薄膜均匀，连续。
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