[发明专利]一种高纯度金属溅射靶材冷却方法

说明书

本申请提供了一种高纯度金属溅射靶材冷却方法，包括：在所述冷却箱中设置第一冷却机构、第二冷却机构和第三冷却机构，所述第一冷却机构对高纯度金属溅射靶材进行清洗杂质和初步冷却，所述第二冷却机构对清洗之后的高纯度金属溅射靶材进行水冷，所述第三冷却机构对高纯度金属溅射靶材进行风冷。本发明所述的一种高纯度金属溅射靶材冷却方法，通过设置的第一冷却机构、第二冷却机构和第三冷却机构，第一冷却室对高纯度金属溅射靶材进行清洗杂质和初步冷却，第二冷却室通过设置的冰水能够使得高纯度金属溅射靶材快速降温，第三冷却室中的冷风机能够对进行再次冷却和风杆，从而提高本方法的冷却效率，方便了人们的使用。

技术领域

本发明涉及溅射靶材技术领域，特别涉及一种高纯度金属溅射靶材冷却方法。

背景技术

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜，这种被镀的材料就叫溅射靶材，溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。

高纯度金属溅射靶材在生产的过程中，生产完成之后需要对其进行快速冷，因此，需要一种高纯度金属溅射靶材冷却方法。

现有的高纯度金属溅射靶材冷却方法在使用时有一定的弊端，现有的高纯度金属溅射靶材冷却方法，通常都是直接对高纯度金属溅射靶材进行水冷或风冷，高纯度金属溅射靶材进行风冷的时候需要较长的时间，无法满足人们的需求，高纯度金属溅射靶材进行水冷时，容易使得冷却水中含有高纯度金属溅射靶材产生的杂质，需要工作人员对冷却水进行清理，增加了人们的劳动强度，无法人们的需求，为此，我们提出一种高纯度金属溅射靶材冷却方法。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种高纯度金属溅射靶材冷却方法，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

一种高纯度金属溅射靶材冷却方法，应用于所述冷却装置中，所述冷却装置包括冷却箱，所述冷却方法包括：在所述冷却箱中设置第一冷却机构、第二冷却机构和第三冷却机构，所述第一冷却机构对高纯度金属溅射靶材进行清洗杂质和初步冷却，所述第二冷却机构对清洗之后的高纯度金属溅射靶材进行水冷，所述第三冷却机构对高纯度金属溅射靶材进行风冷，并对高纯度金属溅射靶材上粘附的冷却水进行清理；其中，所述冷却箱包括第一冷却室、第二冷却室和第三冷却室，所述第一冷却机构设置在所述第一冷却室中，所述第二冷却机构设置在所述第二冷却室中，所述第三冷却机构设置在所述第三冷却室中，所述冷却箱的外侧安装有两组循环水泵，两组所述循环水泵分别与第一冷却室和第二冷却室连通，使得所述第一冷却室内的冷却水和第二冷却室内的冷却水进行循环使用，所述第一冷却室中冷却水设置为常温状态下的水，所述第二冷却室中水设置为冰水。

优选的，所述第一冷却室的内侧顶面安装有第一喷淋座，所述第二冷却室的内侧顶面安装有第二喷淋座，所述第一喷淋座和所述第二喷淋座上均等间距安装有若干组喷淋头，所述喷淋头可对高纯度金属溅射靶材喷淋冷却水进行冷却，所述第三冷却室的内侧顶面可拆卸安装有若干组冷风机，所述冷风机对高纯度金属溅射靶材进行风冷。

优选的，两组所述循环水泵上均安装有两组导水管，两组所述导水管的一端分别设置在第一冷却室和第二冷却室的内部，另外两组所述导水管的一端分别设置在第一喷淋座和所述第二喷淋座上，使得所述循环水泵能够将冷却水导入所述喷淋头中。

优选的，所述第一冷却室的内壁和第二冷却室的内壁均可拆卸安装有过滤板，所述导水管的一端设置在所述过滤板的下方，且所述导水管上可拆卸安装有过滤件，所述过滤件上固定安装有过滤网。