[发明专利]一种高纯铝管溅射靶材的制备方法在审
| 申请号： | 202210792478.7 | 申请日： | 2022-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN115106725A | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 唐智勇;唐安泰 | 申请（专利权）人： | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 主分类号： | B23P15/00 | 分类号： | B23P15/00;C22F1/04;C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 412000 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，所述高纯铝管溅射靶材的制备方法具体步骤如下：原材料准备、真空冶炼、真空浇注、冷等静压、热加工、退火处理、冷却、机械加工以及包装入库，涉及溅射靶材技术领域，其中，本发明中在溅射靶材生产流程中采用了热加工处理以及退火处理工艺，可以使得待加工材料内部的孔隙降低，而且对粉末进行冷等静压操作时，将坯料在1600℃下烧结，同时在烧结时要适当保持一定的氧分压，可防止靶材中的物料分解，从而解决了溅射靶材中孔隙率较大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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