[发明专利]一种高纯铝管溅射靶材的制备方法

权利要求书

1.一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述高纯铝管溅射靶材的制备方法具体步骤如下：

步骤一、原材料准备

取出原材料，在保护性气体氛围下进行混料；

步骤二、真空冶炼

将步骤一处理后的混料在真空环境下进行冶炼；

步骤三、真空浇注

将步骤二中冶炼之后的坯料在真空环境下进行浇注；

步骤四、冷等静压

将步骤三中浇注的坯料在冷却后采用冷等静压机进行压制；

步骤五、热加工

将步骤四中压制之后形成的坯料进行热加工；

步骤六、退火处理

将步骤五中热加工之后的坯料进行退火处理；

步骤七、冷却

将步骤六中经过退火处理后的坯料在冷却环境下进行冷却；

步骤八、机械加工

将步骤七中冷却之后的坯料进行磨削加工，即得到溅射靶材；

步骤九、包装入库

将磨削之后的溅射靶材进行包装入库。

2.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤一中保护性气体氛围为氩气环境，且压力环境为100MPa-150MPa。

3.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤一压力环境中的保持时间为3-5h。

4.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤二中在冶炼过程中保持冶炼环境中通入3％的氧分压。

5.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤四中冷等静压机的压力环境为200MPa-300MPa。

6.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤五中热加工的加工温度为1200-1600℃，持续时间为6h。

7.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤六中退火处理中退火温度为1000-1400℃。

8.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤六中退火保温时间为0.5-2h，之后冷却至室温。

9.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤八中机械加工分为第一阶段加工轧制和第二阶段加工轧制，其中：

第一阶段加工轧制为：在结晶区轧制的温度区间为980～1120℃；

第二阶段加工轧制为：未在结晶区轧制的温度区间为760～830℃。

10.如权利要求1所述的一种高纯铝管溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤九中在包装入库前需要对加工之后的工件进行检验，其检验合格的进行包装；不合格的则重新进行加工。