[发明专利]铁电薄膜的制备方法及铁电薄膜在审
| 申请号： | 202210561574.0 | 申请日： | 2022-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN114990529A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 周益春;徐意;廖敏;廖佳佳;曾斌建 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/52;C23C16/56;C23C16/40 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 张鑫垚 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种铁电薄膜的制备方法及铁电薄膜，属于微电子器件技领域，其中，铁电薄膜的制备方法包括：将衬底置于均匀电场中；于所述衬底上依次沉积第一铁电薄膜、介电层及第二铁电薄膜层。由于该方法施加同步电场调控了衬底表面的势能分布，使得沉积过程中前驱体的吸附和脱附过程不受表面形貌的影响，为制备保形性优异、均一性好的超薄铁电薄膜提供了保障；同时，在电场的作用下，可以调控薄膜内部缺陷的分布以及浓度，消除唤醒效应，提高薄膜的铁电性能和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
