[发明专利]一种发光二极管外延结构及其制备方法在审
申请号: | 202210462693.0 | 申请日: | 2022-04-29 |
公开(公告)号: | CN114824007A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 谢志文;张铭信;陈铭胜 | 申请(专利权)人: | 江西兆驰半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12;H01L33/06;H01L33/00 |
代理公司: | 南昌旭瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 36150 | 代理人: | 彭琰 |
地址: | 330000 江西省南昌市南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: |
本发明提供一种发光二极管外延结构及其制备方法,方法包括:在衬底上生长缓冲层、三维成核层、未掺杂的GaN层、N型复合AlGaN插入层、N型GaN层、InGaN/GaN多量子阱层、P型AlGaN电子阻挡层、P型GaN层及P型接触层;或在衬底上生长缓冲层、三维成核层、未掺杂的GaN层、N型GaN层、N型复合AlGaN插入层、InGaN/GaN多量子阱层、P型AlGaN电子阻挡层及P型GaN层;其中,N型复合AlGaN插入层包括依次交错层叠多个N型Al |
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搜索关键词: | 一种 发光二极管 外延 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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