[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板及显示面板

摘要

本申请公开了一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示面板。所述阵列基板的制备方法包括以下步骤：提供基底；在基底上形成低温多晶硅层，低温多晶硅层具有源极接触部和漏极接触部；在含磷气体的气氛中，在低温多晶硅层上形成磷离子重掺杂的非晶硅层；对磷离子重掺杂的非晶硅层进行图案化处理，以形成第一欧姆接触部和第二欧姆接触部，第一欧姆接触部与源极接触部连接，第二欧姆接触部与漏极接触部连接；在第一欧姆接触部上形成源极，并在第二欧姆接触部上形成漏极。本申请降低了阵列基板中因磷离子重掺杂而带来的高制程温度，提高了低阻抗金属在阵列基板中的适用性，进而提升了显示产品的性能。