[发明专利]砜基修饰硅芴及二噻吩砜并硅芴衍生物及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202210374301.5 | 申请日： | 2022-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN114957309A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 李良春;苟高章 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C07F7/08 | 分类号： | C07F7/08;C09K11/06;G01N21/64;A61B5/1172 |
| 代理公司： | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人： | 陈龙梅 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明采用原位化学氧化合成策略，提供了一类同时具有长波长发射、发射光颜色可调、高颜色纯度、高量子产率、高亮度、高光热稳定性和可用于活细胞成像特性的砜基修饰硅芴及二噻吩砜并硅芴衍生物，该类砜基修饰硅芴及二噻吩砜并硅芴衍生物的制备方法简单、高效，且该类砜基修饰硅芴及二噻吩砜并硅芴衍生物可作为传统荧光染料的替代品，用作荧光可视化材料应用于酸碱蒸汽传感器、生物成像和潜在指纹检测与识别。 | ||
| 搜索关键词： | 修饰 噻吩 衍生物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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